關鍵特征

● CO?氣相還原-PLR-HGPR高溫高壓反應系統(tǒng)可實現(xiàn)較低氣體流速的高溫高壓下的微分式光催化反應；

● 可用于氣-固相光催化,、液固相光催化反應的微分式和積分式光化學反應,；

● 氣體流速可三路獨立控制，使用超厚石英光窗,，可用于全光譜范圍內的光化學反應,；

● 具有二級穩(wěn)流閥及二級穩(wěn)壓閥控制，三路進氣可分別控制,。

應用領域

▲特別適用   ●較為適用  ○可以使用

▲ 光降解液體污染物（如染料,、苯及苯系物等）        ▲ 光催化CO₂還原

▲ 其他高溫高壓（光）化學反應        

● 光催化分解水制氫/氧                   ● 光催化全分解水                                

● 光降解氣體污染物（如VOCs 、甲醛,、氮氧化物,、硫氧化物等）                                             

○ 光催化量子效率測量                    ○光合成                 ○ PEC光電化學

技術參數(shù)

● CO?氣相還原-PLR-HGPR高溫高壓反應系統(tǒng)反應溫度 :室溫+10~300 ℃ (可達380℃);

● 反應壓力:1~10 MPa;

● 反應容積:50 mL（可定制25、100 mL）;

● 氣路數(shù)量:3路;

● 氣體總流量:1~60 mL/min;

● 具有安全泄壓閥:7 MPa（可調節(jié)）,；反應體系溫度,、壓力儀表顯示;

● 獨立高壓氣體混勻室 :1 L，保證氣體在實驗中的連續(xù)長時間供應,；具有二級穩(wěn)流閥及二級穩(wěn)壓閥控制,，三路進氣可分別控制;

● 末端電子皂膜流量計，用于氣體流量監(jiān)測（10~60 mL/min寬范圍調節(jié)）;

● 整體安全一體式防護箱設計,，保證了實驗的安全性;