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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子/電池,電氣,綜合 |
|---|---|---|---|
| 品牌 | 甲岸 |
甲岸小型等離子去膠機屬于真空等離子清洗機系列
隨著科學技術(shù)的進步,，微波等離子去膠機在現(xiàn)代工業(yè)中發(fā)展迅速,。原因也很簡單。選擇等離子去膠機是因為操作簡單,，工作效率高,，成本低，環(huán)保,，去膠后表面光滑,。以下是等離子去膠機的使用方法:
1,、調(diào)整適當?shù)?strong>頻率：
頻率越高，氧越容易電離成等離子體,。如果頻率過高，電子振幅比平均自由度短,，則降低電子與氣體分子碰撞的概率,，降低電離率。通常,，微波等離子體去膠機的常用頻率為13.56mHz和2.45gHZ,。
2、調(diào)整適當功率：
至于一定量的氣體,，功率大,，等離子體中的活性粒子密度高，去膠速度快,；但當功率增加到一定值時,，能消耗的活性離子就會飽滿，無論功率有多大,，去膠速度都不會顯著增加,。由于功率大，基板溫度高,，微波等離子體去膠機的功率應(yīng)根據(jù)技術(shù)要求進行調(diào)整,。甲岸小型等離子去膠機
3、調(diào)整合適的真空度：
適當?shù)恼婵斩瓤梢栽黾与娮舆\動的平均自由度,，因此從電場獲得的能量很大,，有利于電離。當氧氣流量必須準時時,，真空度越高,，氧氣的相對份額就越大，活性粒子的濃度也就越大,。但如果真空度過高,，活性粒子的濃度就會降低。
4,、氧氣流量調(diào)整：
氧氣流量大,，活性粒子密度大，去膠速率加快,；但如果流量過大,，離子復合概率會增加，電子運動的平均自由度會縮短,，電離強度會降低,。如果反應(yīng)室壓力不變,，流量增加，也會增加提取的氣體量,，同時也會增加尚未參與反應(yīng)的活性粒子提取量,，因此流量的增加對去膠速率的影響不大。
甲岸小型真空等離子清洗機
Plasma等離子清洗機一般包括真空系統(tǒng),電源系統(tǒng),供氣系統(tǒng)和清洗室,清洗室內(nèi)安裝有電極架,可以將射頻電極,地極按照交替的方式組合放置,以適應(yīng)不同的清洗場合,。
清洗時首先運行真空泵對真空室進行抽氣,當真空室達到一定真空度后,由充氣閥充入一定氣壓工藝氣體,調(diào)節(jié)氣體流量,使得真空室內(nèi)的真空度保持在30Pa左右,然后給放電電極通入射頻電源,當調(diào)節(jié)電源的輸出功率到合適時,透過玻璃觀察窗,，可以觀察到真空腔體中有輝光現(xiàn)象產(chǎn)生,證明產(chǎn)生了等離子體。
等離子清洗機的機理:
主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的,。就反應(yīng)機理來看,，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
甲岸小型真空等離子清洗機
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