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HWN-P1500-1500新型納米激光直寫系統(tǒng)

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公司簡介:

   蘇州華維納納米科技有限公司是在"蘇州工業(yè)園區(qū)創(chuàng)業(yè)人才項目"的支持下,于2011年注冊成立的高科技創(chuàng)新型公司,,公司由歸國和國內的高層次人才組成,,公司設有博士后流動站。公司曾先后獲得國家科技部(國家重大大科學儀器設備開發(fā)專項)和姑蘇,、江蘇省雙創(chuàng)人才,、以及蘇州x-nano大科學裝置等項目支持,并于20126月 完成首輪風險融資,,成功研發(fā)出擁有自主知識產權的三大系列新型納米激光光刻系統(tǒng),,2015年被認定為高新技術企業(yè)。

公司近年來,不斷加大研發(fā)力度,,已經定型了LDW-P LDW-L兩大系列新型激光直寫設備,,實現(xiàn)了激光直寫設備的更新?lián)Q代。該新型激光直寫采用全新的技術路徑提高加工分辨率,,一舉突破突衍射極限的限制,,成功實現(xiàn)納米尺度加工;突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現(xiàn)狀,,可以廣泛應用于各種受體材料,,極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。





無掩模納米光刻系統(tǒng),,激光直寫設備

應用領域 化工 激光波長 405nm
特征尺寸 100nm 激光功率 120mW至300mW(可選)
刻寫范圍 1500umx1500um

HWN-P1500-1500新型納米激光直寫系統(tǒng)是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統(tǒng),,根據(jù)壓電平臺的移動范圍,分為P100,、P200,、P500、P1000,、P1500等不同型號,,具有結構緊湊、操作方便,、維護簡單,、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征,,能廣泛適用于各種微納結構及器件制造,、材料工藝探素和小規(guī)模生產。該系列產品還可根據(jù)用戶特殊需求,,提供定制設計和制造,。

新概念技術:華維納LDW-P系列通過激光與材料的非線性相互作用,成功突破了光學衍射極限的限制,,實現(xiàn)了納米尺度的加工分辨力,,最小的孔洞直徑可達50nm。

多受體材料:華維納LDW-P系列通過高精度的功率調制(<1‰),,可兼容包括金屬薄膜,、無機相變材料、光刻膠等多種受體材料,。


可靠易用性:華維納LDW-P系列擁有強大的軟件功能,,支持標量刻寫、矢量刻寫等多種刻寫模式,,供用戶根據(jù)不同的刻寫場景而選擇,。另外,,LDW-P系列還支持樣品刻寫后的在線分析,使用戶一站式完成設計,、刻寫,、分析等步驟, 大大提高了工作效率,。











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