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全自動離子濺射儀

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濺射儀噴金儀

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      江蘇雷博科學(xué)儀器有限公司2013年9月成立于江蘇江陰,,是一家初期以 高檔專業(yè)的實驗室儀器開發(fā)為目標(biāo)的海歸創(chuàng)業(yè)企業(yè),。公司主營高檔實驗室儀器及半導(dǎo)體設(shè)備開發(fā)業(yè)務(wù)。公司技術(shù) 力量雄厚,,人才濟(jì)濟(jì),,憑借雄厚的技術(shù)實力不斷進(jìn)行新產(chǎn)品開發(fā)和創(chuàng)新實現(xiàn), 在納米薄膜制備類儀器領(lǐng)域取得了顯著的市場地位,。公司生產(chǎn)的高精度高可 靠性勻膠機榮獲江蘇省高新技術(shù)產(chǎn)品,,是國內(nèi)勻膠機全系列、多功能,、定制 化服務(wù)的供應(yīng)商,。

      公司生產(chǎn)和銷售不同領(lǐng)域的高檔科研儀器和工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備:Schwan technology®是我們的納米薄膜制備類設(shè)備品牌,主要有勻膠機,、顯影機,、 烤膠機,、提拉機、噴膠機,、涂膜機,、狹縫涂布機等相關(guān)產(chǎn)品;L EB O science®是我們的工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備品牌,,主要有勻膠機,、顯影機、蝕刻機,、 去膠機,、清洗機等獨立柜式機臺及工業(yè)全自動機臺。 公司產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用于納米薄膜制備需求的鈣鈦礦薄膜太陽能,、有機光 電,、MEMS、聲表,、光通訊,、化合物半導(dǎo)體及先進(jìn)封裝等領(lǐng)域,具有核心技 術(shù)可靠,、高性價比,、定制化服務(wù)的競爭優(yōu)勢,。

 

勻膠機,、顯影機,、烤膠機、刻蝕機,、清洗機

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 5萬-10萬
控制方式 觸屏控制 樣品倉尺寸 直徑150mm*高度130mmmm
樣品臺尺寸 直徑55mmmm 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電氣,綜合
  全自動離子濺射儀工作原理:
 
  直流冷陰極二極管式,,靶材處于常溫,加負(fù)高壓1-3kv,,陽極接地,。當(dāng)接通高壓,陰極發(fā)射電子,,電子能量增加到1-3kev,,轟擊低真空中(3-10pA)的氣體,使其電離,,激發(fā)出的電子在電場中被加速,,繼續(xù)轟擊氣體,產(chǎn)生聯(lián)級電離,,形成等離子體,。離子以1-3kev的能量轟擊陰極靶,當(dāng)其能量高于靶材原子的結(jié)合能時,,靶材原子或者原子簇,,脫離靶材,,又經(jīng)過與等離子體中的殘余氣體碰撞,因此方向各異,,當(dāng)落在樣品表面時,,可以在粗糙的樣品表面形成厚度均一的金屬薄膜,而且與樣品的結(jié)合強度高,。如果工作室中的氣體持續(xù)流動,,保持恒定壓力,這時的離子流保持恒定,。高壓的功率決定了最大離子流,,一般有最大離子流限制,用于保護(hù)高壓電源,。
 
  全自動離子濺射儀的操作:
 
  一般工作距離可調(diào),,距離越近,濺射速度越快,,但熱損傷會增加。
 
  離子流的大小通過控制真空壓力實現(xiàn),,真空度越低,,I越大,濺射速度越快,,原子結(jié)晶晶粒越粗,,電子轟擊樣品(陽極)產(chǎn)生的熱量越高;真空度越高,I越小,,濺射速度越慢,,原子結(jié)晶晶粒越細(xì)小,電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量小,。
 
  加速電壓為固定,也有可調(diào)的,,加速電壓越高,對樣品熱損傷越大,。一般使用金屬靶材的正比區(qū)域,。
 
  有些熱敏樣品,需要對樣品區(qū)進(jìn)行冷卻,,水冷或者帕爾貼冷卻,;也可以采用磁控裝置,像電磁透鏡一樣把電子偏離樣品,。經(jīng)過這樣的改造,,當(dāng)然會增加很高的成本??梢栽谑灡砻鏋R射一層金屬,,而沒有任何損傷,!
 
  真空中的雜質(zhì)越多,鍍膜質(zhì)量越差,。一般黃金比較穩(wěn)定,,可以采用空氣作為等離子氣源,而其他很多靶材則需要惰性氣體為好,。
 
  氣體原子序數(shù)越高,,動量越大,濺射越快,,但晶粒會較粗,,連續(xù)成膜的膜層較厚。
 
  保持真空室的潔凈對高質(zhì)量的鍍膜有很大好處,。
 
  不要讓機械真空泵長期保持極限真空,,否則容易反油。


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