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P 系列 粉末原子層沉積系統(tǒng)

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復納科學儀器(上海)有限公司(簡稱“復納科技”)于 2012 年在上海成立,聚焦荷蘭飛納臺式掃描電鏡在中國市場的推廣和應用,,涵蓋領(lǐng)域包括材料,、鋰電新能源、半導體,、生命科學和法醫(yī)檢測等,。

截止目前,復納科技服務超過 2000 家飛納電鏡客戶和 100 家相關(guān)產(chǎn)品客戶,,包括:清華大學,、北京大學、復旦大學,、上海交通大學,、華南理工大學和中科院系統(tǒng)等高校科研單位,;巴斯夫,、寧德時代、微軟,、默克和出入境檢驗局等企事業(yè)單位,。

2017 年開始,復納科技陸續(xù)與 7 家行業(yè)品牌建立了長期合作,,致力于為中國高校,、研究所、企業(yè)和政府用戶提供先進可靠,、高效智能的科學分析儀器,、優(yōu)質(zhì)專業(yè)的服務和基于核心技術(shù)的解決方案,。目前已引進先進的:DENSsolutions TEM原位樣品桿,飛納臺式掃描電鏡,,NEOSCAN臺式高分辨顯微 CT,,F(xiàn)orgeNano原子層沉積、 Technoorg Linda SEM/TEM樣品制備和VSParticle 納米氣溶膠沉積等設(shè)備,。

十年以來,,復納科技賦能中國科研創(chuàng)新、工業(yè)升級,,人工智能檢測的使命也越來越清晰,。

 

 

 

 

臺式掃描電鏡,SEM / TEM 樣品制備,,ALD 原子層沉積,,TEM 原位樣品桿,X 射線顯微 CT

價格區(qū)間 面議 應用領(lǐng)域 化工,能源,電子,制藥

P 系列粉末原子層沉積系統(tǒng)

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粉末包覆可有效提升材料性能與使用壽命,,如鋰電正極或負極材料,,經(jīng)過表面包覆處理后在放電性能及循環(huán)使用壽命方面都有明顯提升,但目前工業(yè)的包覆手段以機械混合的干法為主,,該方法包覆均勻性較差,,性能提升有限。ALD 技術(shù)可實現(xiàn)高精度及均勻包覆,,是理想的包覆手段,。Forge Nano 針對粉末類材料比表面積大的特點,采用流化床技術(shù)實現(xiàn)粉末材料的流化,,從而保證前驅(qū)體與粉末實現(xiàn)充分的接觸,。P 系列粉末原子層沉積系統(tǒng)是 Forge Nano 針對工業(yè)包覆研發(fā)的粉末 ALD 負載系統(tǒng),可實現(xiàn) kg 級粉末批量包覆,,是工業(yè)生產(chǎn)前理想的研發(fā)工具,。


產(chǎn)品規(guī)格原子層沉積多少錢


1. 前驅(qū)體通道:2-8

2. 腔室容量:0-600ml

3. 反應器溫度:450℃

4. 最高工藝溫度:200℃

5. 振動流化床反應器

6. 模塊:流化輔助,質(zhì)譜,,臭氧發(fā)生器,等離子體發(fā)生器


產(chǎn)品特點


P 系列是 Forge Nano 專為粉末 ALD 開發(fā)的研發(fā)級工具,,可輕松實現(xiàn) kg 的粉末包覆,。使用流化床技術(shù)可保證粉末在反應器中的分散,有利于前驅(qū)體擴散,。

圖片5.png

流化輔助

粉末在長時間存放或流化不充分時容易出現(xiàn)團聚,,導致無法形成理想的流化態(tài)。因此利用流化輔助模塊,,高剪切氣流以及振動反應器的設(shè)計可沖散團聚顆粒,,確保分散效果。


分區(qū)加熱

所有前驅(qū)體源均可獨立加熱,保證運輸條件,,這對于部分低蒸汽壓的前驅(qū)體以及敏感的基底材料非常重要,。P 系列也擁有*的閥門控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)多通道前驅(qū)體輸運,。


在線監(jiān)測

P 系列配置了氣體在線分析系統(tǒng),,對 ALD 工藝的改善有較大幫助,使用者可通過氣體成分判斷反應的完成度,。


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應用

鋰電池:鋰電正極或負極材料的包覆可有效提升其放電性能及使用壽命,。常見的 NCM 與磷酸鐵鋰,在表面包覆 Al2O3 等氧化物薄膜后,,在經(jīng)過多次放電后,,仍可保持較高的能量密度。



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3D 打?。?/strong>3D 打印粉末存在腐蝕及表面氧化的問題,,會影響最終器件的性能。通過表面涂層改性,,可有效延緩氧化及腐蝕,。傳統(tǒng)的包覆方式是在器件表面進行 ALD 沉積,但對于 3D 打印粉末,,直接對原材料粉末改性無疑是更有效的手段,。


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催化:催化反應大多數(shù)是發(fā)生在材料表面的界面反應,因此對于催化劑材料進行表面構(gòu)筑改性是有效的性能提升手段,。利用 ALD 可以直接在粉末,,纖維材料表面生長高活性納米涂層,另一種方法是利用模板法結(jié)合 ALD 在表面構(gòu)筑特定結(jié)構(gòu),,暴露活性位點,。此外,也可以在特定的顆粒表面進行表面包覆,,防止催化劑燒結(jié)團聚,。


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