高低溫探針臺(tái)

     中國臺(tái)灣奕葉CG-196高低溫探針臺(tái)的探針座架設(shè)在真空腔體外側(cè),，在不破壞溫度及真空環(huán)境的情況下,，隨著元件的冷縮熱膨，探針座可配合將探針做重復(fù)修改下針. 為消除來自于真空幫浦及地的震動(dòng),，內(nèi)置主動(dòng)氣浮式防震桌. 探針座少2 組多8 組,，真空10exp-3  Torr 到10exp-6 Torr， 甚至提供腔體正壓到達(dá)10atm,，超低溫達(dá)4度K  ,，超高溫達(dá)1200°C，除了DC直流pA應(yīng)用之外，RF射頻也能勝任到40GHz.適合感知器,，航太及軍事 精密產(chǎn)品電特性分析,。

在真空環(huán)境下，探針臺(tái)有兩種應(yīng)用：

一,、超低溫情況下：

由于晶圓在超低溫情況下進(jìn)行探測,，水氣將會(huì)出現(xiàn)并且將會(huì)凍結(jié)晶圓。水氣將會(huì)影響測量,，導(dǎo)致測量失敗,。真空倉中的水氣將通過真空泵排出，真空泵必須具備長時(shí)間測量的要求,。

二,、高溫情況下：
       當(dāng)晶圓加熱超過300攝氏度， 400攝氏度,， 500攝氏度或者更高溫度時(shí),，會(huì)發(fā)生很強(qiáng)烈的氧化。溫度越高,，越加大硅片表面的氧化,，氧化將使晶圓降低電學(xué)性，物理性和機(jī)械性,。真空倉中的氧氣通過真空泵來排出,。真空泵必須能夠保持長時(shí)間的測量要求。
由于卡盤將被熱量所控制,，應(yīng)用于超低溫和高溫的環(huán)境,，在晶圓上探針由于晶圓的收縮和膨脹，將需要一定的改變位置,。因此,，一些探針將需要通過真空倉之外的探針座的三軸控制旋鈕重新定位。外部的機(jī)動(dòng)探針座可通過拉桿控制系統(tǒng)輕松地重新定位真空倉中的探針,。

三,、特點(diǎn)：

• 三種溫度范圍可選擇：
  77K—480K  (-196℃—200℃)
  77K—780K  (-196℃—500℃)
  77K—1080K (-196℃—800℃)

• 所有框架采用焊接以堅(jiān)固的結(jié)構(gòu)

• 通過外置探針座來控制探針重新定位

• 橋型結(jié)構(gòu)顯微鏡以方便打開真空倉

• 顯微鏡可通過鏡臺(tái)控制地移動(dòng)，X-Y軸移動(dòng)范圍 1英寸—1英寸

• 可升級到6個(gè)探針座
  

• 雙屏蔽chuck高低溫時(shí)達(dá)到10pA精度

• 可選擇防震桌

• 可選擇高真空倉
  

四,、規(guī)格：

l 卡盤直徑40mm

l 溫度的精度為0.1度

l 液氮瓶50升

l 探針座X-Y-Z三軸移動(dòng)范圍：25mmx25mmx25mm,，精度10微米

l 顯微鏡X-Y軸移動(dòng)范圍：1英寸x1英寸

l 連續(xù)變焦：0.8X—5X 

l 目鏡：20X

l 總放大倍數(shù)：16X—100X

l 150W燈源箱

l 雙分支鵝頸管燈源

l 尺寸：1300mm長x1100mm寬x1500mm高

l 重量：300Kg

五、操作說明：

l 溫度控制單元：

當(dāng)需要溫度達(dá)到室溫以下時(shí),，卡盤需要通過液氮來降溫以達(dá)到溫度低于事先設(shè)置的溫度。比例積分微（PID）分控制器可以的控制溫度來加熱卡盤中的熱敏器件,。

l 液氮單元

氮?dú)馐潜仨毜?，通過氮?dú)饧訅赫婵掌縼硗苿?dòng)液氮的流出，液氮的容量可以通過氮?dú)獾膲簭?qiáng)、液氮的進(jìn)氣閥和出氣閥來控制,。

l 真空倉單元

真空倉可通過真空泵產(chǎn)生10-3 托的壓強(qiáng)提供給超低溫的應(yīng)用,；

BNC母接頭用來連接探測設(shè)備的信號裝置；

真空泵可提供排氣過濾作用,，以避免污染客戶的環(huán)境,；

l 探針座單元

所有探針座都在真空倉外設(shè)置，這將幫助工程師在真空組織下進(jìn)行探測時(shí)不用排出真空倉內(nèi)的氣體,。特別是,，當(dāng)溫度降低的時(shí)候，晶圓開始收縮,，探針已經(jīng)離開需要探測的測試樣品,，工程師需要重新設(shè)置探針，將探針扎到測試樣品上,。

l 顯微鏡單元：

顯微鏡可以通過橋梁結(jié)構(gòu)移動(dòng)到旁邊,，以方便打開真空倉的蓋子。顯微鏡可以通過真空倉上面得窗口觀察,，

燈光可以通過階梯式旋鈕控制亮度,，雙分支鵝頸式光纖引導(dǎo)源可以用于定位及分離目標(biāo)。