石墨烯支持膜：非常適合高分辨率成像,，納米顆粒成像和弱對比材料/界面成像,。基底材料有300目純碳微柵支持膜,、2000目銅網(wǎng)+Synaptek   1 x   2mm單孔環(huán),、多孔氮化硅膜、單面拋光二氧化硅片,，石墨烯膜有單層（厚度0.35nm）,，2層（厚度0.7nm），3-5層（厚度1.0-1.7nm）和6到8層（厚度2.1-2.8nm）,。貨號21710-5到21626-25,。氧化石墨烯支持膜：親水性強，比石墨烯支持膜更適合生命科學應用和研究,，可用于聚合物,、大分子和生物樣品的成像分析并且不需要重金屬染色?；撞牧嫌?00目純碳微柵支持膜,、多孔氮化硅膜、單面拋光二氧化硅片,，氧化石墨烯膜有單層（厚度0.8-1.2nm）,，2層（厚度1-1.5nm）。貨號21810-5到21642-25,。

氮化硅支持膜：氮化硅支持膜是硅片上生長了一層氮化硅,氮化硅支持膜主要用于納米技術和分子生物研究,，它的優(yōu)點是化學和機械性能穩(wěn)定耐腐蝕，可以承受高達1000°C的溫度變化,。適合直接在氮化硅支持膜上對顆?；蚣毎M行各種納米技術實驗。應用領域：FIB樣品支撐,，細胞生物學（附著的細胞可以直接在支持膜上的環(huán)境中生長,，然后進行分析）、分析膠體,，氣溶膠,，納米顆粒、自組裝單層,、高分子研究,、薄膜研究（直接沉積在氮化硅支持膜上）、材料科學,、半導體器件的納米結構的性質,、半導體：薄膜表征,、催化劑研發(fā)。膜厚度：彈性,，超低應力8,、15、35或50nm,，可產生最小吸收,，從而實現(xiàn)清晰的成像；堅固,，低應力的100nm和200nm,，可在多個平臺上更好地處理和使用；窗口尺寸：   0.25 x 0.25mm,，0.5 x 0.5mm,，0.75 x 0.75mm，1.0 x 1.0mm,，0.5 x 1.5mm以及具有3 x   3陣列的9個0.1 x 0.1mm窗口或2個0.1x   1.5毫米窗口的窗口版本,。較大的窗口可提供更大的可視區(qū)域，例如,，可以實現(xiàn)層析成像應用所需的更大的傾斜角度,。具有多個窗口的版本允許將多個樣本安裝在單獨的窗口上。表面粗糙度：   RMS（Rq）為0.65 +/- 0.06nm,，平均粗糙度（Ra）為0.45 +/- 0.02nm,。貨號21510-10到21579-10。

親水性氮化硅支持膜：親水性表面使水溶液在支持膜上的潤濕性和分散性得到改善,，避免了使用親水性較差支持膜時常出現(xiàn)的顆粒團聚現(xiàn)象,，尤其適用于水溶液與生命科學研究。貨號21553-10到21551-10,。

疏水性氮化硅支持膜：疏水表面改善了溶解或懸浮在有機溶劑中的材料的制樣效果,。有機溶劑中的納米顆粒（例如碳納米管）易于分散在氮化硅膜表面。貨號21593-10到21591-10,。

CLEM氮化硅支持膜:擁有兩個平行斷面的氮化硅支持膜,，該框架有助于樣品對齊,，方便做光電關聯(lián)顯微鏡實驗,。CLEM窗口的厚度為200µm，直徑為3mm,，兩側有兩個1mm長的平行平邊緣,。氮化硅膜有四種不同的厚度：15   nm，50 nm,，100 nm和200 nm,，孔徑范圍從0.1 x 0.1mm到1 x   1mm,。貨號21560CL-10到21528CL-10和21518-10.

多孔氮化硅支持膜：用MEMS制造工藝制造的多孔氮化硅支持膜，該多孔氮化硅支持膜是在3mm的硅片上有一個0.5mm x   0.5mm的窗口,，窗口上有一張的低應力厚度為200nm的無定形氮化硅陣列孔支持膜,。共有十二種孔徑可供選擇，范圍從100nm至5μm,，陣列孔數(shù)90 x 90到1125 x   1125個,。貨號21536-10到21585-10。

氮化硅X射線支持膜：尺寸分為10mm和5mm氮化硅片以及0.5mm,，1mm或2mm單方形窗口,。氮化硅膜厚度為50、100或200nm,。貨號21901-10到21929-10,。