一,、臭氧+紫外光催化反應器工藝技術是什么：

臭氧氧化體系具有較高的氧化還原電位，能夠氧化廢水中的大部分有機污染物,，被廣泛應用于工業(yè)廢水處理中,。臭氧能氧化水中許多有機物，但臭氧與有機物的反應是有選擇性的,，而且不能將有機物分解為CO2和H2O,，臭氧氧化后的產(chǎn)物往往為羧酸類有機物。且臭氧的化學性質不穩(wěn)定,，尤其在非純水中,， 氧化分解速率以分鐘計。在廢水處理中,，臭氧氧化通常不作為一個單獨的處理單元,，通常會加入一些強化手段，如光催化臭氧化,、堿催化臭氧化和多相催化臭氧化等,。此外，臭氧氧化與其他技術聯(lián)用也是研究的方向,。

二,、臭氧+紫外光催化反應器工藝應用范圍：

表面活性劑廢水深度處理。印染,、電子,、電鍍廠廢水深度處理。

三,、紫外光催化氧化反應器高/級氧化機理：

  當以光子能量≥TiO2帶隙能(3.2 eV)的光波輻照TiO2時(λ≤387.5 nm),，處于價帶的電子被激發(fā)到導帶上生成高活性電子(e-)，在價帶上產(chǎn)生帶正電荷的空穴(h+),。TiO2與水接觸后,，水分子及溶解氧與被光激發(fā)產(chǎn)生的h+、e-作用,，生成強氧化性的·OH,、·O2-，并通過·OH,、h+和·O2-等逐步將有機物降解為CO2和H2O等無機物,。·OH和·O2-使吸附在TiO2表面的難降解有機物中的共軛雙鍵、P—O鍵或P—S鍵發(fā)生斷裂,，提高其可生化性,。

紫外光催化氧化降解表面活性劑具有無毒、快速,、適應底物廣,，礦化徹/底等優(yōu)點，在對表面活性劑降解的系統(tǒng)研究中發(fā)現(xiàn),，含芳環(huán)的表面活性劑比僅含烷氧基的更易斷鏈降解實現(xiàn)無機化,，而直鏈部分降解慢，雖然表面活性劑的鏈烷烴部分采用光催化降解難以*氧化成二氧化碳,，但隨著表面活性劑苯環(huán)部分的破壞,，表面活性劑毒性大為降低，生成的長鏈烷烴副產(chǎn)物對環(huán)境危害明顯減少,。對于十二烷基苯磺酸鈉廢水,、含陽離子lu化芐基十二烷基二甲基胺廢水等，光催化降解均取得了較好的效果,，是目前國內(nèi)外*的光催化技術較為承成熟的應用領域之一,。