為什么會(huì)用到晶圓顯微鏡,？晶圓是制作半導(dǎo)體材料的主要部件,，而在半導(dǎo)體晶圓的整體制造過(guò)程有幾百個(gè)步驟,，需要?dú)v時(shí)一到兩個(gè)月完成。因此缺陷檢測(cè)對(duì)于半導(dǎo)體制造過(guò)程非常重要,，如果流程早期出現(xiàn)任何缺陷,，則后續(xù)步驟中執(zhí)行的所有工作都將被浪費(fèi)，所以在半導(dǎo)體制造過(guò)程中缺陷檢測(cè)是其中的關(guān)鍵步驟,，用于確保良率和產(chǎn)量,。這就需要用到技術(shù)先進(jìn)的顯微鏡來(lái)進(jìn)行缺陷檢測(cè)，識(shí)別并定位產(chǎn)品表面存在的雜質(zhì)顆粒沾污,、機(jī)械劃傷,、晶圓圖案缺陷等問(wèn)題。

　　晶圓檢測(cè)是主要的芯片產(chǎn)品合格率統(tǒng)計(jì)分析方法之一,，而在芯片的總面積擴(kuò)大和相對(duì)密度提升的情況下,，對(duì)晶圓的要求也不斷升級(jí)，晶圓檢測(cè)也越來(lái)越精細(xì),，這就需要更長(zhǎng)的檢測(cè)時(shí)間及其更為高精密繁雜的檢測(cè)設(shè)備來(lái)實(shí)行檢測(cè),。晶圓顯微鏡除了擁有圖像清晰、易操作,、檢測(cè)速度快的優(yōu)勢(shì)之外,，還針對(duì)晶圓缺陷檢測(cè)做出了一系列的特殊功能，確保晶圓檢測(cè)的準(zhǔn)確性,。顯微鏡融合了先進(jìn)的光學(xué)技術(shù)和數(shù)字技術(shù),，擁有簡(jiǎn)便的直觀操作和穩(wěn)定的可靠性，可為用戶(hù)創(chuàng)建簡(jiǎn)潔合理的工作流程和靈活高效的解決方案,，讓晶圓的檢測(cè)更精準(zhǔn),、更簡(jiǎn)單。