無掩模光刻機(jī)

美國(guó)AMP（Advanced Micro Patterning, LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無掩模曝光技術(shù)，已成為無掩模紫外光刻領(lǐng)域的,。國(guó)內(nèi)參考用戶較多,！

產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)：
微米和亞微米光刻,小0.6微米光刻精度
紫外光直寫曝光,無需掩模，大幅節(jié)約了掩模加工費(fèi)用
靈活性高,，可直接通過電腦設(shè)計(jì)光刻圖形,，并可根據(jù)設(shè)計(jì)要求隨意調(diào)整。
可升級(jí)開放性系統(tǒng)設(shè)計(jì),。
按照客戶要求可從低端到端自由配置
使用維護(hù)簡(jiǎn)單, 設(shè)備耗材價(jià)格低,。
應(yīng)用范圍廣,，目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物芯片,、微機(jī)電系統(tǒng),、傳感器、微化學(xué),、光學(xué)等領(lǐng)域,。

無掩模光刻機(jī)

曝光鏡頭
•   光源:200W汞燈.
•   光源壽命:>1000小時(shí).
•   涵蓋了汞燈的波段，范圍寬,， >510nm 下對(duì)準(zhǔn)
襯底光照波長(zhǎng)：
365nm+/-5 nm
405 nm+/-5nm
435nm+/-5 nm
•   波段曝光模式,，可以在波段350–550nm范圍內(nèi)進(jìn)行單次曝光.
•   像素大小Pixel Sizes included with system
1.25微米， 4X 物鏡,， (5 um 小線寬)
0.25微米,， 20X 物鏡， (1 um 小線寬)
•   256級(jí)灰度識(shí)別
•   4X物鏡可以在曲面構(gòu)建1mm 深的結(jié)構(gòu),， 而不用移動(dòng)鏡頭和樣品臺(tái)
•   一體化的光學(xué)過濾器可以在曝光過程中保持工作.
•   可以使用掩膜板和無掩膜兩種工作模式.
•   可以實(shí)現(xiàn)整個(gè)XY軸樣品臺(tái)移動(dòng)范圍內(nèi)的大尺寸圖形曝光.
•   單一在線式相機(jī)可以觀測(cè)樣品并聚焦樣品,。.
•   多像素曝光可以提供大于750000個(gè)像素處理，在一次靜態(tài)曝光中.

一體化硬件和軟件功能
•   C語言基礎(chǔ)上的軟件,，使用方便,，修改以及和其它系統(tǒng)整合容易.
•   全自動(dòng)聚焦
•   鏡頭和樣品臺(tái)在視場(chǎng)內(nèi)校準(zhǔn)。
•   管理員可控制使用者權(quán)限
•   程序可存儲(chǔ)及調(diào)用
•   全自動(dòng)面與面之間的對(duì)準(zhǔn),，自動(dòng)找平
•   遠(yuǎn)程網(wǎng)絡(luò)診斷
•   微軟Windows程序的個(gè)人電腦,，集成與系統(tǒng)中.

全自動(dòng)樣品臺(tái)
•  適合60mm方片襯底.
•  曝光面積60mmx 60mm，在此面積內(nèi)適合所有像素尺寸.
•  線性位移平臺(tái)
•  X軸和 Y軸移動(dòng)
•  總移動(dòng)范圍: 60mm
•  準(zhǔn)確性:+/-1微米,，在每個(gè)軸的位移總長(zhǎng)
•  重復(fù)性: +/-150nm ,，每個(gè)軸
•  精度:5nm，每個(gè)軸
•  Z 軸移動(dòng)
•  總移動(dòng)范圍:5mm
•  準(zhǔn)確性:+/- 0.5微米
•  重復(fù)性: +/-250nm
•  旋轉(zhuǎn)角度移動(dòng)
•  總移動(dòng)范圍: 135度
•  準(zhǔn)確性:+/-5 arcsec
•  重復(fù)性: +/-2 arc sec
•  4軸控制器,，并開發(fā)數(shù)字界面.
•  通用的真空吸附樣品臺(tái),，支持方片襯底

CCD相機(jī)
•  1/2”步進(jìn)掃描式CCD
•  感應(yīng)區(qū)域:6.4mmx4.8mm
•  1392x 1024像素陣列
•  像素大小：4.65微米x4.65微米
•  IEEE1394 視頻輸出
•  保證*兼容NI Windows軟件