BMF nanoArch® P140
- 公司名稱 八帆儀器設(shè)備(上海)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2021/3/1 21:22:43
- 訪問次數(shù) 852
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原子力顯微鏡,,原子力拉曼,有機(jī)合成質(zhì)譜儀,,制備色譜,,納米紅外光譜儀,掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡,,電鏡下原子力,,微米級(jí)3D打印機(jī),
應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
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BMF nanoArch® P140 系統(tǒng)簡(jiǎn)介:
nanoArch P140是可以實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng),,它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術(shù),。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印圖案投影到樹脂槽液面,,在液面固化樹脂并快速微立體成型,,從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件,完成樣品的制作,。該技術(shù)具備成型效率高,、打印精度高等突出優(yōu)勢(shì),被認(rèn)為是目前有前景的微納加工技術(shù)之一,。
科研級(jí)3D打印系統(tǒng)
nanoArch® P140 系統(tǒng)性能
光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學(xué)精度 10μm | ||
XY打印精度 10~ 40μm | 打印層厚 10~40μm | 打印樣品尺寸 19.2mm(L)*10.8mm(W)*45mm(H) | ||
打印文件格式 STL | 系統(tǒng)外形尺寸 1000mm(L)×700mm(W)×1600(H)mm3 | 機(jī)器外形尺寸 650mm(L)×650mm(W)×750(H)mm3 | ||
重量 300kg | 電氣要求 200~240V AC,50/60HZ,3KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | ||
設(shè)備功率 2000W |
注:①,、樣品高度典型10mm,,z高45mm
打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹脂,比如HDDA,,PEGDA等,。
個(gè)性化
405nm固化波段的光敏樹脂材料 ,支持透明樹脂,,柔性樹脂,,硬性樹脂,納米顆粒摻雜復(fù)合樹脂,4D打印樹脂,,生物醫(yī)療樹脂等,,需適配不同的工藝和模型,不保證打印性能

BMF nanoArch® P140系統(tǒng)特點(diǎn):

(XY打印精度高達(dá)10μm)

(10μm~40μm的打印層厚)




應(yīng)用案例







