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BMF nanoArch® P140

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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八帆儀器設(shè)備(上海)有限公司是創(chuàng)建于2017年,,是集測(cè)試測(cè)量,、研發(fā)、生產(chǎn),、銷售,、服務(wù)為一體的高科技公司,亞太區(qū)總部位于中國(guó)上海,。并在北京設(shè)立辦事處,。八帆儀器設(shè)備(上海)有限公司致力于代理和應(yīng)用*成熟的測(cè)試測(cè)量?jī)x器及技術(shù),應(yīng)用于材料,,物理,,光學(xué),化學(xué),,生物等領(lǐng)域,。同時(shí)與國(guó)內(nèi)外研發(fā)機(jī)構(gòu)合作研究開發(fā)高精密測(cè)試測(cè)量技術(shù)及設(shè)備定制,。有各*機(jī)構(gòu)的技術(shù)支持,匯集有行業(yè)的精英技術(shù)團(tuán)隊(duì),,負(fù)責(zé)產(chǎn)品及方案設(shè)計(jì),、生產(chǎn)制造、售前售后服務(wù),。

原子力顯微鏡,,原子力拉曼,有機(jī)合成質(zhì)譜儀,,制備色譜,,納米紅外光譜儀,掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡,,電鏡下原子力,,微米級(jí)3D打印機(jī),

應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

BMF nanoArch® P140 系統(tǒng)簡(jiǎn)介:

nanoArch P140是可以實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng),,它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術(shù),。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印圖案投影到樹脂槽液面,,在液面固化樹脂并快速微立體成型,,從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件,完成樣品的制作,。該技術(shù)具備成型效率高,、打印精度高等突出優(yōu)勢(shì),被認(rèn)為是目前有前景的微納加工技術(shù)之一,。 

科研級(jí)3D打印系統(tǒng)

nanoArch® P140是工業(yè)級(jí)3D打印系統(tǒng),,擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,可以兼顧微尺度和宏觀樣件的打印,,從而實(shí)現(xiàn)超高精度大幅面的樣件制作,,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

nanoArch® P140 系統(tǒng)性能

光源

UV-LED(405nm)

打印材料

光敏樹脂

光學(xué)精度

10μm

XY打印精度

10~ 40μm

打印層厚

10~40μm

打印樣品尺寸

19.2mm(L)*10.8mm(W)*45mm(H)

打印文件格式

STL

系統(tǒng)外形尺寸

1000mm(L)×700mm(W)×1600(H)mm3

機(jī)器外形尺寸

650mm(L)×650mm(W)×750(H)mm3

重量

300kg

電氣要求

200~240V AC,50/60HZ,3KW

其他要求

部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊

設(shè)備功率

2000W

注:①,、樣品高度典型10mm,,z高45mm

打印材料

通用型

丙烯酸類光敏樹脂,比如HDDA,,PEGDA等,。

個(gè)性化

405nm固化波段的光敏樹脂材料 ,支持透明樹脂,,柔性樹脂,,硬性樹脂,納米顆粒摻雜復(fù)合樹脂,4D打印樹脂,,生物醫(yī)療樹脂等,,需適配不同的工藝和模型,不保證打印性能

BMF nanoArch® P140系統(tǒng)特點(diǎn):

高精度
(XY打印精度高達(dá)10μm)
低層厚
(10μm~40μm的打印層厚)
微尺度大幅面的打印能力
光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng),,自動(dòng)對(duì)焦功能
優(yōu)良的光源穩(wěn)定性
配備完善的樣品后處理組件 包括抽真空及紫外后固化

應(yīng)用案例

 

 



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