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DP100-BE-H 加熱型基本提拉鍍膜機(jī)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱(chēng) 江蘇雷博科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 LEBO/雷博
- 型號(hào) DP100-BE-H
- 產(chǎn)地 江蘇江陰金山路201號(hào)創(chuàng)智產(chǎn)業(yè)園A座五樓南
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/3/6 18:17:02
- 訪問(wèn)次數(shù) 4635
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產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,石油,綜合 |
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科研鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,,具體包括很多種類(lèi),,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,,MBE分子束外延,,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種,。
需要鍍膜的被稱(chēng)為基片,,鍍的材料被稱(chēng)為靶材?;c靶材同在真空腔中,。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面,,通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜,。對(duì)于濺射類(lèi)鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái),,并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過(guò)程,,最終形成薄膜,。
科研鍍膜機(jī)產(chǎn)品參數(shù):
1.運(yùn)行速度: 0.1-600 mm/min
2.行程: 100 mm,位移精度:±0.1 mm
3.額定線性推力: >50 N
4.浸漬時(shí)間:0-9999.9 s
5.重復(fù)鍍膜間隔時(shí)間0-9999.9 s
6.重復(fù)鍍膜步驟:1-999次,重復(fù)鍍膜間隔時(shí)間:0-9999.9s
7.晶片選擇尺寸:大長(zhǎng)100mm
8.4.3寸全彩觸屏,簡(jiǎn)單易用,,標(biāo)配觸屏筆操作
9.結(jié)構(gòu)緊湊,,易于放置在手套箱內(nèi)使用
10.自帶幫助功能,對(duì)初次使用者提供使用向?qū)Чδ?br />
11.提供手動(dòng)上下高度調(diào)節(jié),,方便位置設(shè)置
12.可命名存貯100組鍍膜程序,,方便隨時(shí)調(diào)用
13.產(chǎn)品外形尺寸:227(W)*350(D)*416(H)


在DP100-BE基礎(chǔ)上增加底部加熱功能:
1.控溫范圍:室溫到120℃(更高溫度可定制)
2.高精密數(shù)顯溫控表控制,控溫精度:±0.5℃