蔡司 Xradia 810 Ultra

為中低原子序數(shù)樣品及科學(xué)與工業(yè)領(lǐng)域內(nèi)的材料成像提供更出色的反差和圖像質(zhì)量的X 射線顯微鏡Xradia 810 Ultra

總體描述

Xradia 810 Ultra 將納米級(jí)三維 X 射線的成像性能提升 10 倍,。這款創(chuàng)新的 X 射線顯微鏡（XRM） 能在 5.4 keV 的低能量下工作，為中低原子序數(shù)樣品及科學(xué)與工業(yè)領(lǐng)域內(nèi)的材料成像提供更出色的反差和圖像質(zhì)量,。

 

技術(shù)參數(shù)：

在實(shí)驗(yàn)室完成 50 納米較高分辨率三維 X 射線成像
無(wú)損三維 X 射線成像允許在直接微觀結(jié)構(gòu)觀察下對(duì)同一樣品進(jìn)行重復(fù)成像
利用吸收襯度和相位襯度對(duì)不同材料進(jìn)行成像,，如中低原子序數(shù)材料、碳酸鹽巖,、頁(yè)巖,、組織、生物力學(xué)材料,，在納米級(jí)尺度上將速度提升了 10 倍
即便是無(wú)權(quán)限使用同步輻射裝置的研究人員也能在實(shí)驗(yàn)室中獲得類(lèi)似于同步輻射的成像結(jié)果,，或者讓同步輻射時(shí)間變得更有效率
更快的圖像采集速度大大提高了工作效率，讓更多研究人員使用中心實(shí)驗(yàn)室
視場(chǎng)可在 16 至 65 µm 的范圍內(nèi)調(diào)整,，更好的滿(mǎn)足成像需求
在原位設(shè)備中樣品的成像保持高分辨率
用于斷層掃描重構(gòu)的圖像自動(dòng)調(diào)整功能
在實(shí)驗(yàn)室中開(kāi)發(fā),、準(zhǔn)備、測(cè)試你計(jì)劃的同步實(shí)驗(yàn),，讓有限的同步輻射時(shí)間更加有效率
搭配 Scout-and-Scan 控制系統(tǒng)和基于工作流程的用戶(hù)界面,，尤其適合研究人員水平各不相同的中心實(shí)驗(yàn)室
 
 

特點(diǎn)：

更高分辨率,、更高襯度,、更快速度
蔡司是能在實(shí)驗(yàn)室儀器中提供 50 nm 分辨率無(wú)損三維 X 射線成像解決方案的廠商,。除吸收襯度和 Zernike 相襯技術(shù)外，蔡司 Xradia 810 Ultra 還運(yùn)用了改裝自同步加速器的*光學(xué)器件,，用以為研究提供業(yè)界出眾的分辨率和襯度。通過(guò)在傳統(tǒng)成像工作流程中加入關(guān)鍵的無(wú)損分析步驟,，從而讓這款創(chuàng)新型儀器實(shí)現(xiàn)了研究領(lǐng)域的突破,。
Xradia 810 Ultra 能夠利用 5.4 keV 下的更高襯度對(duì)大量難于成像的材料進(jìn)行高分辨率 X 射線成像。借助吸收襯度和相襯技術(shù)來(lái)優(yōu)化大量材料的成像,，如聚合物,、氧化物、復(fù)合材料,、燃料電池,、地質(zhì)樣品及生物材料等。在*的同步加速器實(shí)驗(yàn)室內(nèi)*引入納米級(jí) X 射線成像技術(shù),，蔡司 XRM 開(kāi)創(chuàng)性解決方案始終讓您走在科學(xué)研究的前列,。
通過(guò)將納米級(jí) X 射線成像的速度提升一個(gè)數(shù)量級(jí)，拓展了 XRM 在科學(xué)和工業(yè)領(lǐng)域中的應(yīng)用,。對(duì)于中心顯微實(shí)驗(yàn)室而言,，更快的工作流程意味著有更多的用戶(hù)能在更短的時(shí)間內(nèi)綜合利用儀器,，從而利于擴(kuò)大 XRM 的用戶(hù)群,。同樣,，您也可以快速地重復(fù)執(zhí)行內(nèi)部結(jié)構(gòu)的四維和原位研究,，使這些技術(shù)的應(yīng)用面更廣。在諸如數(shù)字巖石物理技術(shù)等有針對(duì)性的應(yīng)用中,，Xradia 810 Ultra 可用于評(píng)估油氣鉆探的可行性,，在數(shù)小時(shí)內(nèi)提供測(cè)量數(shù)據(jù)來(lái)表征關(guān)鍵性參數(shù),，如孔隙度,。