納米粒子測量儀

納米粒子測量儀通用掃描遷移率粒度儀,，適合各種應(yīng)用（8–1200nm）

• 說明

• 規(guī)格參數(shù)

• 優(yōu)點

• 應(yīng)用領(lǐng)域

圖1：U-SMPS 2050/2100/2200

Palas®通用掃描遷移率粒度儀（U-SMPS）有兩個版本,。長分類柱（2050/2100型）能夠可靠地確定8至1,200 nm的粒徑分布。 Palas®U-SMPS系統(tǒng)包括一個分類器[在ISO 15900中定義為差分電遷移率分類器（DMA）,，也稱為差分遷移率分析器（DEMC）],，根據(jù)氣溶膠顆粒的電遷移率選擇并傳遞給出口。

然后通過冷凝顆粒計數(shù)器（例如Palas®UF-CPC）對這些顆粒進(jìn)行計數(shù),。三種可用的UF-CPC模型可實現(xiàn)各種濃度范圍內(nèi)的Z佳單顆粒計數(shù),。 Wiedensohler教授（德國IfT萊比錫）開發(fā)了Palas®的算法，用于對測量數(shù)據(jù)進(jìn)行反演以產(chǎn)生U-SMPS粒度分布,。

U-SMPS使用觸摸屏上的圖形用戶界面進(jìn)行操作,。單個粒子分布掃描可以在短短30秒內(nèi)執(zhí)行，或者,，每十個通道多執(zhí)行64個尺寸通道,，在此期間，DEMC分類器中的電壓連續(xù)變化,，從而導(dǎo)致每個尺寸通道的計數(shù)統(tǒng)計更高,。集成的數(shù)據(jù)記錄器允許在設(shè)備上以線性和對數(shù)顯示測量值。隨附的評估軟件提供各種數(shù)據(jù)評估（廣泛的統(tǒng)計和平均）以及導(dǎo)出功能,。

U-SMPS通常作為獨立設(shè)備運行,，但也可以使用各種接口（USB,，LAN，WLAN,，RS-232/485）連接到計算機(jī)或網(wǎng)絡(luò),。 Palas®U-SMPS支持其他制造商的各類DMA、CPC和氣溶膠靜電計,。

U-SMPS的準(zhǔn)確尺寸測定和可靠性能十分重要,，對于校準(zhǔn)來說尤其如此。所有組件都通過嚴(yán)格的質(zhì)量保證測試,，并在內(nèi)部組裝,。

圖2展示U-SMPS的工作原理：

氣溶膠在進(jìn)入分類器（DEMC列）之前經(jīng)過調(diào)節(jié)?？蛇x的干燥器（例如硅膠,，Nafion）可以去除顆粒中的水分。使用雙極中和劑（例如Kr 85）來確保測定的氣溶膠電荷分布,。為了去除大于分類機(jī)尺寸范圍的顆粒,，需要在DEMC的入口處使用撞擊器。

圖2：通用掃描遷移率粒度儀（U-SMPS）的工作原理

然后,，氣溶膠通過入口導(dǎo)入DEMC色譜柱,。沿著外部電極的氣溶膠流在此與護(hù)套氣流仔細(xì)合并。重要的是,，在此處應(yīng)避免任何湍流,，以確保層流。電極的表面在光滑度和公差方面必須具有*的質(zhì)量,。

鞘空氣是干燥的,、無顆粒的載氣（通常是空氣），其體積大于連續(xù)在閉環(huán)中循環(huán)的氣溶膠的體積,。鞘空氣與樣品空氣的體積比定義傳遞函數(shù),，從而定義尺寸分類器的分辨率。

通過施加電壓在內(nèi)和外電極之間產(chǎn)生徑向?qū)ΨQ的電場,。內(nèi)電極在末端具有小縫隙,，帶正電。通過平衡每個粒子上的電場力及其在電場中的空氣動力學(xué)阻力,，帶負(fù)電的粒子被轉(zhuǎn)移到正電極,。根據(jù)它們的電遷移率，一些顆粒會穿過狹縫并離開DEMC,。

在工作中，電壓和電場連續(xù)變化,。結(jié)果,，遷移率變化的粒子離開DEMC,，并由納米粒子計數(shù)器（例如縮合粒子計數(shù)器）（例如Palas®UF-CPC）連續(xù)進(jìn)行測量。

在實際條件下,，經(jīng)過測試的軟件為組合數(shù)據(jù)（電壓,、粒子數(shù)等）并獲得粒度分布提供特殊的處理功能，如圖3所示,。

圖3：Palas®DNP 3000顆粒發(fā)生器產(chǎn)生的氣溶膠的粒徑分布

用戶界面和軟件

基于持續(xù)的客戶反饋,，我們已設(shè)計良好的用戶界面和軟件，以實現(xiàn)直觀的操作,、實時控制,，并可以顯示測量數(shù)據(jù)和參數(shù)。

此外,，軟件還通過集成的數(shù)據(jù)記錄器,、完善的導(dǎo)出功能和網(wǎng)絡(luò)支持為數(shù)據(jù)管理提供支持?？梢允褂迷S多可用的顯示選項和測量數(shù)據(jù)評估功能,。