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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>物理特性分析儀器>測(cè)厚儀>白光干涉測(cè)厚儀>FR-pRo Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)x

FR-pRo Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)x

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司(Dymek Company Ltd ,下面簡(jiǎn)稱(chēng)岱美)成立于1989年,,是一間擁有多年經(jīng)驗(yàn)的高科技設(shè)備分銷(xiāo)商,,主要為數(shù)據(jù)存儲(chǔ),、半導(dǎo)體、光通訊,、高校及研發(fā)中心提供各類(lèi)測(cè)量設(shè)備,、工序設(shè)備以及相應(yīng)的技術(shù)支持,并與一些重要的客戶(hù)建立了長(zhǎng)期合作的關(guān)系,。自1989年創(chuàng)立至今,,岱美的產(chǎn)品以及各類(lèi)服務(wù)、解決方案廣泛地運(yùn)用于中國(guó)香港,,中國(guó)大陸(上海,、東莞、北京),,中國(guó)臺(tái)灣,,泰國(guó),菲律賓,,馬來(lái)西亞,,越南及新加坡等地區(qū)。


岱美在中國(guó)大陸地區(qū)主要銷(xiāo)售或提供技術(shù)支持的產(chǎn)品:

晶圓鍵合機(jī),、納米壓印設(shè)備,、紫外光刻機(jī)、涂膠顯影機(jī),、硅片清洗機(jī),、超薄晶圓處理設(shè)備、光學(xué)三維輪廓儀,、硅穿孔TSV量測(cè),、非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x、薄膜厚度檢測(cè)儀,、主動(dòng)及被動(dòng)式防震臺(tái)系統(tǒng),、應(yīng)力檢測(cè)儀、電容式位移傳感器,、定心儀等,。


岱美重要合作伙伴包括有:

Thetametrisis, EVG, FSM, Opto-Alignment, Herz, PLSINTEC, Film Sense, Reditech, Lazin, Delcom, Microsense, Shb, boffotto, RTEC, Kosaka, Nanotronics, MTInc, 4D, Daeil, Microphysics,

n&k Technology, First Nano, Schmitt, LESCO, Otsuka, STI, Kurashiki, Ryokosha, SURAGUS, Westbond...


如有需要,請(qǐng)聯(lián)系我們,,了解我們?nèi)绾伍_(kāi)始與您之間的合作,,實(shí)現(xiàn)您的企業(yè)或者組織機(jī)構(gòu)長(zhǎng)期發(fā)展的目標(biāo)。




膜厚儀,,輪廓儀,,EVG鍵合機(jī),EVG光刻機(jī),,HERZ隔震臺(tái),,Microsense電容式位移傳感器

產(chǎn)地類(lèi)別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,綜合
膜厚測(cè)量?jī)x是一種用于測(cè)量薄膜,、涂層或其它薄層材料厚度的儀器。膜厚測(cè)量?jī)x通常采用不同的工作原理和技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的厚度測(cè)量,,常見(jiàn)的膜厚測(cè)量?jī)x包括:
1,、X射線熒光測(cè)厚儀:利用X射線照射樣品表面,通過(guò)測(cè)量熒光光譜來(lái)確定薄膜厚度,。
2,、聲表面波測(cè)量?jī)x:利用超聲波在薄膜表面?zhèn)鞑サ奶匦詠?lái)測(cè)量薄膜厚度。
3,、光學(xué)干涉儀:利用光學(xué)干涉原理測(cè)量薄膜的厚度,,常見(jiàn)的有白光干涉儀和激光干涉儀。
4,、磁感應(yīng)測(cè)厚儀:通過(guò)測(cè)量磁感應(yīng)信號(hào)來(lái)確定薄膜或涂層的厚度,。
膜厚測(cè)量?jī)x在工業(yè)生產(chǎn),、材料研發(fā),、電子設(shè)備制造等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用,可幫助用戶(hù)準(zhǔn)確測(cè)量和控制薄膜的厚度,,確保產(chǎn)品質(zhì)量和性能,。使用膜厚測(cè)量?jī)x時(shí),需要根據(jù)實(shí)際情況選擇適合的儀器和測(cè)量方法,,并注意儀器的操作規(guī)范和安全注意事項(xiàng),。

Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)xFR-pRo概述:

FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。

FR-pRo膜厚儀是一個(gè)模塊化和可擴(kuò)展平臺(tái)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備,,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層,。

FR-pRo膜厚儀是為客戶(hù)量身定制的,并廣泛應(yīng)用于各種不同的應(yīng)用,。

比如:

吸收率/透射率/反射率測(cè)量,,薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等…

Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)xFR-pRo應(yīng)用:

1、大學(xué)&研究實(shí)驗(yàn)室

2,、半導(dǎo)體行業(yè)

3,、高分子聚合物&阻抗表征

4、電介質(zhì)特性表征

5,、生物醫(yī)學(xué)

6,、硬涂層,陽(yáng)極氧化,,金屬零件加工

7,、光學(xué)鍍膜

8、非金屬薄膜等等…

FR-pRo膜厚儀可由用戶(hù)按需選擇裝配模塊,,核 心部件包括光源,,光譜儀(適用于 200nm-2500nm 內(nèi)的任何光譜系統(tǒng))和控制單元,,電子通訊模塊。

此外,,還有各種各種配件,,比如:

1.用于測(cè)量吸收率/透射率和化學(xué)濃度的薄膜/試管架;

2.用于表征涂層特性的薄膜厚度工具,;

3.用于控制溫度或液體環(huán)境下測(cè)量的加熱裝置或液體試劑盒,;

4.漫反射和全反射積分球。

通過(guò)不同模塊組合,,蕞終的配置可以滿足任何終端用戶(hù)的需求,。

Specificatins 規(guī)格:

Model

UV/Vis

UV/NIR -EXT

UV/NIR-HR

D UV/NIR

VIS/NIR

D Vis/NIR

NIR

光譜范圍  (nm)

200 – 850

200 –1020

200-1100

200 – 1700

370 –1020

370 – 1700

900 – 1700

像素

3648

3648

3648

3648 & 512

3648

3648 & 512

512

厚度范圍

1nm – 80um

3nm – 80um

1nm – 120um

1nm – 250um

12nm – 100um

12nm – 250um

50nm – 250um

測(cè)量n*k 蕞小范圍

50nm

50nm

50nm

50nm

100nm

100nm

500nm

準(zhǔn)確度*,**

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

2nm or 0.2%

3nm or 0.4%

精度*,**

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.1nm

穩(wěn)定性*,**

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.15nm

光源

氘燈 & 鎢鹵素?zé)?內(nèi)置)

鎢鹵素?zé)?內(nèi)置)

光斑 (直徑)

 

 

350um (更小光斑可根據(jù)要求選配)

 

 

材料數(shù)據(jù)庫(kù)

 

 

 

> 600 種不同材料

 

 

 

Accessries 配件:

電腦

19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦

聚焦模塊

光學(xué)聚焦模塊安裝在反射探頭上,光斑尺寸<100um

薄膜/比色皿容器

在標(biāo)準(zhǔn)器皿中對(duì)薄膜或液體的透射率測(cè)量

接觸式探頭

用于涂層厚度測(cè)量和光學(xué)測(cè)量的配件,,適用于彎曲表面和曲面樣品

顯微鏡

用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測(cè)量

Scanner  (motorized)

帶有圓晶卡盤(pán)的Polar(R-Θ)或 Cartesian(X-Y)自動(dòng)化樣品臺(tái)可選,,Polar(R-Θ)樣品臺(tái)支持反射率測(cè)量,Cartesian(X-Y)樣品臺(tái)支持反射率和透射率測(cè)量

積分球

用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射

手動(dòng) X-Y 樣品臺(tái)

測(cè)量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動(dòng)平臺(tái)

加熱模塊

嵌入FR-tool 中,,范圍由室溫~200oC,,通過(guò)FR-Monitor 運(yùn)行可編程溫控器(0.1 oC 精度).

液體模塊

聚四氟乙烯容器,用于通過(guò)石英光學(xué)窗口測(cè)量在液體中的樣品,。樣品夾具,,

用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中

流通池

液體中吸光率、微量熒光測(cè)量






工作原理:

白光反射光譜(WLRS)是測(cè)量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,,在經(jīng)多層或單層薄膜反射后,,經(jīng)界面干涉產(chǎn)生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學(xué)常數(shù),。

* 規(guī)格如有更改,,恕不另行通知; ** 厚度測(cè)量范圍即代 表光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測(cè)量厚度,。

 



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