EVG^®620 NT

Smart NIL^® UV Nanoimprint Lithography System

EVG®620NT   SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)

具有UV納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，采用EVG專有的SmartNIL®技術(shù),，大可達(dá)100 mm

技術(shù)數(shù)據(jù)

EVG620 NT以其靈活性和可靠性而著稱,，以小的占位面積提供了新的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù),。操作員友好型軟件，短的掩模和模具更換時(shí)間以及有效的服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動(dòng)批量生產(chǎn)）的理想解決方案,。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,，例如真空，軟,，硬和接近曝光模式,，以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。此外,，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,，包括鍵對(duì)齊和納米壓印光刻。此外,，半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù),。

SmartNIL是行業(yè)的NIL技術(shù)，可對(duì)小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化,，并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化,。 SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)的吞吐量,，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì),，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。 EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印技術(shù)的長(zhǎng)期前景,，納米壓印技術(shù)是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本,，高產(chǎn)量的替代光刻技術(shù)。

*分辨率取決于過程和模板

特征

頂側(cè)和底側(cè)對(duì)齊能力

高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)

自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列

電動(dòng)和配方控制的曝光間隙

支持新的UV-LED技術(shù)

小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和配方,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換重組

臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版

附加功能：鍵對(duì)齊、紅外對(duì)準(zhǔn),、SmartNIL 、µ接觸印刷

技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：大150毫米的碎片

SmartNIL®：長(zhǎng)達(dá)100毫米

解析度≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL和SmartNIL®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對(duì)準(zhǔn)

軟NIL：≤±0.5 µm

SmartNIL®：≤±3 µm

自動(dòng)分離

柔紫外線NIL：不支持

SmartNIL®：受支持

工作印章制作

柔軟的UV-NIL：外部

SmartNIL®：受支持