菲躍儀器定位于服務(wù)實(shí)驗(yàn)室精密儀器全生命鏈周期,，多年來,，菲躍儀器產(chǎn)品覆蓋了國內(nèi)近三十個省市、自治區(qū),，并廣泛應(yīng)用于大中專院校,、電子、生物科技,、新能源,、化工，科研院所等各個領(lǐng)域,，并得到了充分肯定,，精工品質(zhì)，值得信賴,！

    大容量光化學(xué)反應(yīng)儀廠家產(chǎn)品說明：

包括：光源,、石英冷井、大容量反應(yīng)容器,、大容量磁力攪拌裝置,、低溫水槽、冷凝管,、磨口溫度計(jì)等部分,。
功能：使大容量反應(yīng)器內(nèi)樣品圍繞光源均勻排布的狀態(tài)下進(jìn)行磁力攪拌均勻的接受光照，可提供測定光化學(xué)反應(yīng)動力和反應(yīng)速率,，提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品等,。

1.使多個試管的樣品同時進(jìn)行攪拌且圍繞光源均勻排布，試管內(nèi)攪拌磁子可進(jìn)行無極調(diào)速,。
2.反應(yīng)器附有石英冷井插口,、冷凝管插口、溫度計(jì)插口,、通氣插口
反應(yīng)器規(guī)格250ml,、500ml、1000ml三種規(guī)格可選,。
3.光源放置于石英冷井中,，通冷卻水降溫。
4.攪拌裝置加熱和不加型可選,。

    大容量光化學(xué)反應(yīng)儀廠家?產(chǎn)品特點(diǎn)：

1.光化學(xué)反應(yīng)儀具有智能微電腦控制,，可觀察電流和電壓實(shí)時變化

2.光源控制器，內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器,，功率連續(xù)可調(diào),，穩(wěn)定性高

3.具有分步定時功能，操作簡便

4.反應(yīng)暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料,，且?guī)в杏^察窗

5.采用內(nèi)照式光源,，受光充分,，燈源采用耐高壓防震材質(zhì)，經(jīng)久耐用

6.配有8（6/12可選）位磁力攪拌裝置,，使樣品充分混勻受光

7.雙層耐高低溫石英冷阱,，可通入冷卻水循環(huán)維持反應(yīng)溫度

8.高溫度保護(hù)系統(tǒng)，自動斷電功能

9.機(jī)箱外部結(jié)構(gòu)設(shè)有循環(huán)水進(jìn)出口,，內(nèi)部設(shè)有2個插座,，供燈源和攪拌反應(yīng)器用

    技術(shù)參數(shù):

型號：FY-GHX2

（一）主體部分

1.光化學(xué)反應(yīng)儀光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。

2.集成式光源控制器,，可供汞燈,、氙燈、金鹵燈等多種光源使用,。

3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié),。

4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié),。

（二）d容量反應(yīng)部分

1.玻璃反應(yīng)器皿可以分別選用250ml,、500ml、1000ml等（或定做）,。

2.大功率強(qiáng)力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光,。

（三）控溫裝置

1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量：＞1000W

2.控溫范圍：-5°C到100°C

3.冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有腳輪和底部排液閥。

    光化學(xué)反應(yīng)儀操作說明：

1.準(zhǔn)備工作：連接電源,。使用該儀器前首先把光化學(xué)反應(yīng)器（或磁力攪拌器）放入主機(jī)箱內(nèi),，石英反應(yīng)管（或反應(yīng)容器）內(nèi)放入磁子。之后檢查所需要使用的汞燈（氙燈）,、反應(yīng)器以及冷卻水循環(huán)裝置是否連接好,。

2.反應(yīng)暗箱內(nèi)設(shè)有光化學(xué)反應(yīng)器（或磁力攪拌器），請按指示連接,。

3.依次打開控制器上面的總開關(guān),、燈開關(guān)（通電后，反應(yīng)暗箱內(nèi)空氣開始外排）,。

4.打開光化學(xué)反應(yīng)器（或磁力攪拌器）上面的電源開關(guān),，按需調(diào)節(jié)攪拌速度。

5.光源功率調(diào)節(jié)位于控制器左下角,，可按需調(diào)節(jié)光源功率大小,。

6.控制器內(nèi)配有高溫斷電保護(hù)裝置，出廠設(shè)置保護(hù)溫度為50℃,，使用時溫度高于50℃機(jī)器自動斷電,！

注：無論使用汞燈或氙燈做實(shí)驗(yàn)時，必須將燈源放置在石英冷阱內(nèi)使用（建議同時配套低溫冷卻循環(huán)裝置使用，避免溫度過高造成儀器損壞）,。