CVD/MOCVD專用氫氣發(fā)生器
- 公司名稱 英國普拉勒科技有限公司-普拉勒(南京)儀器科技有限公司
- 品牌 PECULIAR/普拉勒
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/4/1 13:49:08
- 訪問次數(shù) 8240
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產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,綜合 |
CVD(Chemical Vapor Deposition)和MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)是兩種常用的化學(xué)氣相沉積技術(shù),用于制備薄膜,、涂層和納米材料等,。
CVD是一種通過在反應(yīng)室內(nèi)將反應(yīng)物質(zhì)以氣體形式傳輸并在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而在襯底上形成所需材料的方法,。該過程涉及到化學(xué)反應(yīng),、氣體輸運(yùn)和表面擴(kuò)散等多個步驟。在CVD過程中,,通過控制反應(yīng)氣體的組成,、流速、溫度和壓力等參數(shù),,可以實(shí)現(xiàn)對所生長材料的成分,、結(jié)構(gòu)和性能的精確控制。
而MOCVD是一種特殊的CVD技術(shù),,主要用于生長復(fù)雜化合物薄膜,,如半導(dǎo)體材料、光電材料等,。MOCVD利用金屬有機(jī)前驅(qū)物(通常是金屬有機(jī)化合物)和載氣(如氫氣,、氮?dú)猓┰诟邷貤l件下反應(yīng),使金屬有機(jī)前驅(qū)物分解并釋放金屬原子,,然后這些金屬原子與載氣中的其他氣體反應(yīng),,最終在襯底表面形成所需薄膜。
CVD,,MOCVD專用氫氣發(fā)生器由超純水機(jī)制取二級水,,并儲存至水箱備用。氫氣發(fā)生器缺水時,,自動供給至氫氣發(fā)生器,。多臺氫氣發(fā)生器可串聯(lián)使用,通過串聯(lián)控制線由一臺發(fā)生器控制其他發(fā)生器,,實(shí)現(xiàn)產(chǎn)氣均勻分配,。(以兩臺設(shè)備為例控制圖如下)