高溫箱式馬弗爐向爐內(nèi)同入一定成分的人工制備氣氛，以達到某種熱處理的目的,，如氣體滲碳,，碳氮共滲及光亮淬火，退火,，正火等。氣氛爐主要由以下部份組成：1臺爐體,，1臺內(nèi)膽移動架(含水路,，氣路系統(tǒng))。
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概述：氣氛爐,，額定溫度分別為1100℃,、1400℃、1600℃,、1700℃,，使用不同的加熱元件，型號齊全,，可靠,，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結,、玻璃的退火與微晶化,、晶體的退火、陶瓷釉料制備,、粉末冶金,、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,，是科研單位,、高等院校、工礦企業(yè)理想的實驗和生產(chǎn)設備,。

氣氛爐特點：

　　1.設備主體采用雙層鈑金結構,，雙層鈑金之間裝有風機，加強對流,，設備外表面溫度低,。

　　2.爐門、爐頂采用高溫硅橡膠密封,，爐門配備水冷系統(tǒng),。爐體上有進氣口、出氣口,、抽真空口,。

　　3.爐膛材料采用氧化鋁多晶纖維真空吸附制成,，較傳統(tǒng)耐火材料，熱損耗低,，保溫效果*,，節(jié)能50%以上。

　　4.加熱元件采用電阻絲,，發(fā)熱均勻,，熱效比高，使用壽命長,。加熱元件懸掛于爐膛內(nèi),，維護簡便。

copperfoilisusedasabase,，mo,。熱電偶不要在高溫時驟然拔出，以防外套炸裂,。經(jīng)常保持爐膛清潔,，及時爐內(nèi)氧化物之類東西。管式爐針對實驗室的使用要求,。具有PID調(diào)節(jié),，全自動控制，自整定功能,，多段程序編程,，并可編制各種升溫，保溫,，降溫程序,，控溫精度高，集成模塊可控硅控制,，移相,。Achievegrowthofhighqualitygraphenethinfilmsbycontrollingnucleationandgrowthofgraphene通過對石墨烯成核與生長的調(diào)控實現(xiàn)高品質(zhì)石墨烯薄膜生長Inthismethod裝卸料采用間歇式手動裝，卸料,，裝料時將料盒放置在料盆支架,。
　　5.溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調(diào)節(jié)技術，具有PID調(diào)節(jié),、模糊控制,、自整定能力等功能，可編制較多50段升降溫控制程序程序,。

　　6.爐膛有效區(qū)域內(nèi)溫場均勻性優(yōu)異,，經(jīng)實地檢測≤±5℃，符合二級電爐標準。

　　7.爐內(nèi)可以通氬氣,、氮氣等多種氣體,，并能預抽真空，真空度可達-0.08MPa,，氣氛壓力可以達到0.1Mpa,爐體采用厚鋼板加工而成,，防漏氣測試。

可實現(xiàn)預抽真空,，可通入各種保護氣體,，氧化氣體和還原氣體箱式爐箱式高溫爐外型和一個箱子一樣，也就是傳統(tǒng)意義上的馬弗爐,，只不過功能更強大,，保溫性能更好。根據(jù)技術要求,，定期經(jīng)常檢查電爐。