磁控離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇，以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求,。

在電子顯微鏡領(lǐng)域內(nèi),，往往需要對樣品進行表面鍍膜從而使樣品表面成像或者圖像質(zhì)量得到改善。在樣品表面覆蓋一層導(dǎo)電的金屬薄膜可以消除荷電反應(yīng),，降低電子束對樣品表面的熱量損傷,，可以提高SEM對樣品進行形貌觀察,所需要的二次電子信號量。噴金后可以提供二次電子產(chǎn)額,提升信號強度和圖像質(zhì)量。

　 濺射電流12mA,濺射時間10s 濺射電流10mA,濺射時間20s 　 濺射電流12mA,濺射時間30s 　 濺射電流10mA,濺射時間60s

離子濺射儀系統(tǒng)特點：

○ 儀器采用微處理器控制,，自動化程度高精確控制,、易于操作；

○ 低電壓,、較好真空度下的實現(xiàn)大電流濺射,，可濺射金、銀,、銅,、鉑等常用金屬靶材；

○ 金膜顆粒絕大多數(shù)＜10nm,，顆粒更細,，均勻度更好，附著力更強,，觀測效果更佳,；

○ 靶材利用率更高，磁控濺射靶材利用率為直流濺射的2倍,為用戶節(jié)約靶材費用.

○ 電子和負離子被磁場束縛在靶材附近,，鍍膜過程中基本沒有溫升,，適用溫度敏感性樣品；

○ 采用微處理器控制,，擴展性能好,，可實時顯示真空度、濺射電流,、濺射時間,、設(shè)備運行時間、靶材使用時間等,，方便了解設(shè)備情況,，具備過流、真空保護功能,，安全可靠,；

○ 內(nèi)置用戶使用向?qū)Ш驼f明書，方便用戶 操作,；內(nèi)置膜厚估算公式,，便于用戶了 解離子濺射儀工作狀態(tài)；