一,、納米壓印機(jī)的工作原理

納米壓印技術(shù)通過物理壓印的方式,，將模板（模板表面具有納米級圖案）的微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到目標(biāo)材料表面，主要分為以下兩種主流工藝：

1. 熱壓?。═hermal NIL）

步驟：

加熱軟化：將聚合物材料（如PMMA,、SU-8等）加熱至玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上，使其軟化,。

壓印成型：用硬質(zhì)模板（如硅,、石英）在高壓下壓入軟化的聚合物，形成納米結(jié)構(gòu),。

冷卻脫模：降溫固化聚合物后,，分離模板，保留納米圖案,。

特點(diǎn)：工藝簡單,、成本低，但高溫可能限制對熱敏感材料的應(yīng)用,。

2. 紫外光固化壓?。║V-NIL）

步驟：

涂覆光刻膠：在基材表面旋涂紫外光固化膠（低粘度樹脂）,。

壓印曝光：用透明模板（如石英）壓合膠層，同時(shí)紫外光照射固化膠體,。

脫模與刻蝕：分離模板后，通過刻蝕去除殘留膠層,，得到納米結(jié)構(gòu),。

特點(diǎn)：室溫操作、分辨率高（可達(dá)<50nm）,，適合精密器件制造,。

納米壓印優(yōu)勢：

超高分辨率：超越傳統(tǒng)光刻的物理衍射極限。

低成本：無需復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng),，適合大面積圖案化,。

材料兼容廣：可加工金屬、聚合物,、玻璃等多種基材,。

二、納米壓印機(jī)技術(shù)特點(diǎn)

    CNI v3.0系列納米壓印機(jī)是一款專為實(shí)驗(yàn)室開發(fā)的即插即用,，兼具熱壓印和紫外壓印兩種功能,，而且可以快速的實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下的壓印。UV蓋和連接器的壓印腔室,，控制模塊,，用于自動(dòng)控制壓印過程（壓力，溫度,，UV曝光等）,，壓印室可實(shí)現(xiàn)真空兼容，低至1mbar,。

★1.1承載基片：≤210mm的各種基片,，高度20mm；

1.2壓印真空度：1mbar,；

1.3加熱溫度：最高溫度250℃,；

1.4最大壓力：≥5bar；

1.5 UV波長：4個(gè)組合的LED光源,，波長365nm,，組合光的功率可達(dá)到11.6W，LED光源的溫度被實(shí)時(shí)檢測,，擁有過熱保護(hù)功能,；

1.6 UV最大功率：≥11,600mW

1.7 印章載體：1個(gè)可更換的直徑為210 mm的加熱元件，還可以用作壓印腔中的印模承載平臺(tái),，能夠在高達(dá)250℃的溫度下進(jìn)行熱壓??；

1.8 壓印軟件：運(yùn)行CNI 軟件，該軟件控制壓印過程中的所有內(nèi)容（壓力,，溫度,，紫外線照射，時(shí)間等）

三,、納米壓印機(jī)的應(yīng)用

納米壓印技術(shù)憑借其高分辨率和低成本特性,，廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域：

1.半導(dǎo)體與集成電路

制造高密度存儲(chǔ)芯片（如NAND閃存、MRAM）,。

光子集成電路（如硅光器件,、光柵耦合器）。

優(yōu)勢：替代傳統(tǒng)EUV光刻,，降低優(yōu)良制程成本,。

2.光學(xué)器件與顯示技術(shù)

增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)（AR）衍射光波導(dǎo)。

液晶顯示（LCD）導(dǎo)光板微結(jié)構(gòu),。

超表面透鏡（Metalens）的納米天線陣列,。

優(yōu)勢：實(shí)現(xiàn)復(fù)雜光學(xué)結(jié)構(gòu)的低成本批量生產(chǎn)。

3.生物醫(yī)學(xué)與傳感器

微流控芯片（Lab-on-a-Chip）的納米通道,。

表面增強(qiáng)拉曼散射（SERS）基底,。

生物分子檢測的納米孔陣列。

優(yōu)勢：高精度結(jié)構(gòu)提升檢測靈敏度與特異性,。

4.新能源與柔性電子

鈣鈦礦太陽能電池的納米陷光結(jié)構(gòu),。

柔性電子（如可穿戴傳感器）的導(dǎo)電圖案。

透明導(dǎo)電膜（如銀納米線網(wǎng)格）,。

優(yōu)勢：兼容柔性基材（PET,、PI），支持卷對卷（R2R）工藝,。

5.防偽與裝飾

包裝的全息防偽標(biāo)簽,。

奢侈品表面的納米紋理裝飾（如抗指紋、啞光效果）,。

優(yōu)勢：微結(jié)構(gòu)可定制化,，難以復(fù)制。