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高分辨率三維顯微CL

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高分辨率三維顯微CL

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X射線事業(yè)部在*X射線探測器研制、CT圖像重建軟件研發(fā)方面具有很強的研發(fā)實力,,牽頭國家重點研發(fā)計劃重大儀器專項1項和北京市科委項目1項,。事業(yè)部面向半導(dǎo)體封裝檢測、電子產(chǎn)品質(zhì)量控制,、智能制造,、生物醫(yī)學(xué)研究、材料研究,、文物保護研究和安全檢查等領(lǐng)域需求開發(fā)了多種解決方案,,研制的CT成像設(shè)備已形成了完整的產(chǎn)品系列,。 
        核安全事業(yè)部依托國家*重大儀器開發(fā)專項項目“分布式動態(tài)放射性探測成像系統(tǒng)”,將項目中的核成像系列產(chǎn)品,、核素系列產(chǎn)品,、輻射環(huán)境監(jiān)測系列產(chǎn)品、全方向定位產(chǎn)品進行產(chǎn)業(yè)化實施,。形成了核成像,、核素識別、劑量儀表,、輻射環(huán)境監(jiān)測,、通道式輻射定位、大型復(fù)雜場景輻射巡檢,、劑量儀表智能管理系統(tǒng)等系列三十余種產(chǎn)品,,*了核探測設(shè)備國產(chǎn)化的空白。

電子產(chǎn)品質(zhì)量控制,、智能制造,、生物醫(yī)學(xué)研究、材料研究,、

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議

產(chǎn)品概要

高分辨率三維顯微CL(Computed Laminography)系統(tǒng)(3D Micro-CL),,采用傾斜掃描方式解決了傳統(tǒng)CT無法對板狀物體進行高分辨率掃描成像的問題,具有自由度高,、放大比可調(diào),、大視野、高分辨,、快速重建等優(yōu)點,,可用于芯片封裝、電路板,、板狀化石等物體的2D/3D無損檢測,。高分辨率三維顯微CL可應(yīng)用于電子信息、航空航天等領(lǐng)域,。

技術(shù)參數(shù)

檢測尺寸

330mm × 330mm
掃描模式

二維透視成像(DR)

三維斷層掃描(CL)

能量范圍40 – 160 kV
空間分辨率

二維透視成像(10%MTF-229lp/mm)

三維斷層成像(優(yōu)于10μm)

樣本類型芯片,、化石、電路板,、材料

產(chǎn)品的特點

 

大視野拼接成像

GPU加速重建

輻射自屏蔽室,、安全聯(lián)鎖

氣孔率計算功能

 

 

 



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