產(chǎn)品名稱：3D光學(xué)輪廓顯微鏡
 產(chǎn)品型號：PZ-3010D
產(chǎn)品簡介：使用sensofar有技術(shù)開發(fā)的Neox光學(xué)輪廓儀，集成了共聚焦計數(shù)和干涉測量技術(shù),，并具有薄膜測量能力,，該系統(tǒng)可以用于標準的明場彩色顯微成像，共焦成像,，三維共焦建模,，PSI、VSI及高分辨率薄膜厚度測量,。

產(chǎn)品特點：

3D光學(xué)輪廓顯微鏡使用Sensofar有技術(shù)開發(fā)的neox光學(xué)輪廓儀，其共聚焦部分的主要是有著高發(fā)光效率的照明硬件和高對比度算法,。這些特點使系統(tǒng)成為測量有著陡峭斜面,、粗糙的、反光表面和含有異種材料樣品的理想設(shè)備,。高品質(zhì)干涉光學(xué)系統(tǒng)和集成壓電掃描器是干涉輪廓儀部分的關(guān)鍵,。這項技術(shù)對于測量非常光滑至適度粗糙的表面比較理想。這些技術(shù)的組合為neox輪廓儀提供了無限寬廣的應(yīng)用領(lǐng)域,。

可用于標準的明場彩色顯微成像,、共焦成像、三維共焦建模,、PSI,、VSI及高分辨率薄膜厚度測量。沒有移動部件使其擁有堅固而緊湊的設(shè)計,，同時也使得該探頭適合很多應(yīng)用,。極其簡單的、符合人體工程學(xué)的軟件界面使用戶獲得非?？斓臏y量速度,，只需方便地切換適當?shù)奈镧R，調(diào)焦,，并選擇適當?shù)牟杉Ｊ郊纯伞?/p>

產(chǎn)品功能：

※共聚焦 (Confocal Profiling)
共聚焦輪廓儀可以測量較光滑或非常粗糙的表面高度,。借助消除虛焦部分光線的共焦成像系統(tǒng)，可提供高對比度的圖像。籍由表面的垂直掃描,，物鏡的焦點掃過表面上的每一個點,，以此找出每個像素位置的對應(yīng)高度(即共聚焦圖像)。
共聚焦輪廓儀可以由其光學(xué)組件實現(xiàn)超高的水平解析度,，空間采樣可以減小到0.10μm,，這是一些重要尺寸測量的理想選擇。高數(shù)值孔徑NA(0.95)和放大倍率(150X和200X)的物鏡可測量斜率超過70°的光滑表面,。具有高的光效,，共聚焦算法可提供納米級的垂直方向重復(fù)性。超長工作距離(SLWD)可測量高寬比較大,、形狀較陡的樣品,。

● PSI 模式 (PSI Profiling)
相位差干涉儀 (Phase Shift Interferometers)可以亞納米級的分辨率測量非常光滑與和連續(xù)的表面高度。必須準確對焦在樣品上,，并進行多步垂直掃描,，步長是波長的準確的分數(shù)。PSI算法借助適當?shù)某绦驅(qū)⒈砻嫦辔粓D轉(zhuǎn)換為樣品高度分布圖,。
PSI模式可在所有的數(shù)值孔徑(NA)下提供亞納米級的垂直分辨率,。放大倍率較小時(2.5X)可以測量較大視場范圍，并具有同樣的垂直分辨率,。但是光波相干長度使其測量范圍限制在微米級,。PSI算法使neox 得到納米尺度的形態(tài)特征，并以亞納米尺度對超平滑的表面紋理參數(shù)作出評估,。 
● VSI 模式 (VSI Profiling)
白光干涉儀 (White-Light Vertical Scanning Interferometers)可用于測量光滑表面或適度粗糙表面的高度,。當樣品表面各個點處于焦點位置時可得到干涉條紋對比度。多步垂直掃描樣品,，表面上的每一個點會通過對焦點,，通過檢測干涉條紋峰值得到各像素位置的高度。
VSI模式可在所有的數(shù)值孔徑(NA)下提供納米級垂直分辨率,。VSI算法使neox在各放大倍率下得到具有相同垂直分辨率的形態(tài)特征,。其測量范圍在理論上是無限的，盡管在實踐中其將受限于物鏡實際工作距離,。掃描速度和數(shù)據(jù)采集速率可以非?？欤斎贿@會導(dǎo)致一定程度垂直分辨率損失,。

※薄膜測量 (Thin Film)
光譜反射法是薄膜測量的方法之一,，因為它準確、無損,、迅速且無需制備樣品,。測量時,，白光照射到樣品表面，并將在膜層中的不同界面反射,，并發(fā)生干涉和疊加效應(yīng),。結(jié)果，反射光強度將顯示出波長變化,，這種變化取決于薄膜結(jié)構(gòu)不同層面的厚度和折射率,。軟件將測得的真實光譜同模擬光譜進行比較擬合，并不斷優(yōu)化厚度值,，直到實現(xiàn)匹配,。
Neox也可用作高分辨率的薄膜測量系統(tǒng)，它適用于單層箔,，膜或基板上的單層薄膜,，而且還可以處理更復(fù)雜結(jié)構(gòu)(可至基板上10層薄膜)?？稍谝幻雰?nèi)測量從10nm到20μm的透明薄膜,，厚度分辨率0.1 nm，橫向分辨率達5μm,。
使用Sensofar有技術(shù)開發(fā)的neox光學(xué)輪廓儀,，其共聚焦部分的主要優(yōu)點是有著*發(fā)光效率的照明硬件和高對比度算法。這些特點使系統(tǒng)成為測量有著陡峭斜面,、粗糙的,、反光表面和含有異種材料樣品的理想設(shè)備。高品質(zhì)干涉光學(xué)系統(tǒng)和集成壓電掃描器是干涉輪廓儀部分的關(guān)鍵,。這項技術(shù)對于測量非常光滑至適度粗糙的表面比較理想。這些技術(shù)的組合為neox輪廓儀提供了無限寬廣的應(yīng)用領(lǐng)域,。
可用于標準的明場彩色顯微成像,、共焦成像、三維共焦建模,、PSI,、VSI及高分辨率薄膜厚度測量。沒有移動部件使其擁有堅固而緊湊的設(shè)計,，同時也使得該探頭適合很多OEM應(yīng)用,。極其簡單的、符合人體工程學(xué)的軟件界面使用戶獲得非?？斓臏y量速度,，只需方便地切換適當?shù)奈镧R，調(diào)焦,，并選擇適當?shù)牟杉Ｊ郊纯伞?br />特點：
※ 微顯示共聚焦掃描
目前的共聚焦顯微鏡都使用有著可移動機械裝置的鏡面掃描頭,，這會限制其使用壽命,，并且在高倍率時降低像素抖動優(yōu)化效果。對于共焦掃描,，neox使用基于微型顯示器的Sensofar有技術(shù),。該微型顯示器基于鐵電液晶硅(FLCoS)，一種沒有運動部件的快速切換裝置,，使共焦圖像的掃描更快速,、穩(wěn)定并擁有無限的壽命。
※ 彩色CCD攝像頭
Neox使用一個高速高分辨率的黑白CCD攝像頭為系統(tǒng)計量探頭,。另一個彩色攝像頭可用于明場表面觀察,。這樣使得它很容易找出所分析樣品的特點。此外,，地貌測量功能可得到全聚焦彩色圖像,。該系統(tǒng)在垂直掃描過程中記錄圖像合焦位置像素，并和其Z軸位置匹配從而得到全聚焦彩色圖像,，并以此來創(chuàng)建出色的三維模型,。
※ 物鏡
Neox使用的CFI60 Nikon物鏡，在各NA時都有hen大的工作距離,?？蛇x用的物鏡超過50種，每一款都可對應(yīng)某種特別應(yīng)用：可用于共聚焦成像和建模的較高NA,，倍率范圍2.5X至200X,，超長工作距離，特長工作距離及浸水物鏡,；帶調(diào)焦環(huán)的物鏡可在厚2mm范圍的透明介質(zhì)對焦,；2.5X至100X帶參考鏡校正及傾斜的物鏡。
※ 雙垂直掃描器
雙垂直掃描器包括一個電動平臺和壓電掃描器,，以獲得hen高的掃描范圍和高的測量準確度及重復(fù)準確度,。高定位的線性平臺行程40mm，小步進可達10nm,，用于共聚焦掃描非常理想,。集成的壓電掃描器高掃描范圍200μm，壓電電阻傳感器高定位分辨率0.2nm,，全行程準確度1nm?，F(xiàn)有的其它掃描平臺使用光學(xué)編碼器，準確度僅30nm且不確定,，限制了系統(tǒng)的準確度和重復(fù)性,。結(jié)合線性平臺和壓電掃描器的*設(shè)計，使Neox在0.1納米至幾毫米測量范圍內(nèi)的準確度,，線性和重復(fù)性,。
※ 集成反射光譜儀
共聚焦及干擾法測量薄膜厚度的實際限制約為1μm單層膜,。Neox集成了一個反射光譜儀，通過光纖進行薄膜的測量,，厚度范圍在10nm,，可達10層膜。該光纖通過顯微目鏡成像,，因此,，薄膜測量點尺寸小可達5微米。測量使用集成的LED光源,，可提供樣品以及薄膜測量的實時明場影像,。
※ 雙LED
照明光源內(nèi)置了兩個高功率LED，其中白光LED用于彩色明場觀察,，薄膜測量,，VSI和ePSI。另一個藍光LED用于高分辨率共聚焦影像和PSI,。藍光LED較短的波長可有效提升水平分辨率至0.15μm(L&S),，并改善PSI噪聲為0.01nm垂直分辨率。
※ 高速度 (12.5 fps 共聚焦幀速率)
基于FLCoS微型顯示器的高速轉(zhuǎn)換速度和*的快速共聚焦算法,，本設(shè)備可達到12.5幀/秒的共聚焦圖像幀率,，垂直3D掃描達到8層/秒，這意味著3D共焦測量掃描速度范圍為0.5至350μm/s,。干涉掃描速度為50 fps,，即垂直掃描速度高達800μm/s。一次典型的測量時長,，其中包括掃描后的運算,，通常小于5秒。
光譜反射法是薄膜測量的方法之一,，因為它準確,、無損、迅速且無需制備樣品,。測量時，白光照射到樣品表面,，并將在膜層中的不同界面反射,，并發(fā)生干涉和疊加效應(yīng)。結(jié)果,，反射光強度將顯示出波長變化,，這種變化取決于薄膜結(jié)構(gòu)不同層面的厚度和折射率。軟件將測得的真實光譜同模擬光譜進行比較擬合,，并不斷優(yōu)化厚度值,，直到實現(xiàn)匹配,。
Neox也可用作高分辨率的薄膜測量系統(tǒng)，它適用于單層箔,，膜或基板上的單層薄膜,，而且還可以處理更復(fù)雜結(jié)構(gòu)(高可至基板上10層薄膜)?？稍谝幻雰?nèi)測量從10nm到20μm的透明薄膜,，厚度分辨率0.1 nm，橫向分辨率達5μm,。