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無(wú)掩膜曝光機(jī)-光刻機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2025/2/27 12:03:31
  • 訪問(wèn)次數(shù) 2607
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無(wú)掩膜曝光機(jī)

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科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國(guó)外高科技儀器廠家在中國(guó)地區(qū)的代理??祁9疽回灡小赫\(chéng)信』,、『品質(zhì)』、『服務(wù)』,、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,,為廣大中國(guó)用戶提供儀器、設(shè)備,,周到的技術(shù),、服務(wù)和*的整體解決方案。在科技日新月異,、國(guó)力飛速發(fā)展的中國(guó),,納米科學(xué)研究,、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長(zhǎng)和表征、表面材料物性分析,、生物藥物開發(fā),、有機(jī)高分子合成等等領(lǐng)域,都需要與歐美發(fā)達(dá)國(guó)家*接軌的儀器設(shè)備平臺(tái)來(lái)實(shí)現(xiàn),??祁TO(shè)備有限公司有幸成長(zhǎng)在這個(gè)火熱的年代,我們?cè)敢饣癁橐蛔鶚蛄?,見證中國(guó)科技水平的提升,,與中國(guó)科技共同飛速成長(zhǎng)。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國(guó)香港,,在中國(guó)上海設(shè)立了分公司,,在國(guó)內(nèi)多個(gè)城市設(shè)立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù),。2010年,,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉(cāng)庫(kù)及維修中心,同時(shí)提供在大陸的各項(xiàng)技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),,我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,,并且都曾到國(guó)外廠家進(jìn)行了專門的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件,,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便,。我們承諾24小時(shí)電話響應(yīng),72小時(shí)內(nèi)趕到現(xiàn)場(chǎng)維修,。以利于更好,、更快的為中國(guó)大陸服務(wù)!
      因?yàn)樾湃?所以理解.我們理解用戶的困難和需求,。我們已經(jīng)為國(guó)內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),,主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導(dǎo)體所,,中科院大連化學(xué)物理研究所,,國(guó)家納米中心,上海納米中心,,北京大學(xué),,清華大學(xué),中國(guó)科技大學(xué),,南京大學(xué),,復(fù)旦大學(xué),上海交通大學(xué),,華東理工大學(xué),,浙江大學(xué),,中山大學(xué),西安交通大學(xué),,四川大學(xué),,中國(guó)工程物理研究院,香港大學(xué),,香港城市大學(xué),,香港中文大學(xué),香港科技大學(xué)等,。



光刻機(jī),,鍍膜機(jī),磁控濺射鍍膜儀,,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測(cè)量),氣溶膠設(shè)備,,氣溶膠粒徑譜儀,,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),,快速退火爐,,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,,濾料測(cè)試系統(tǒng)

應(yīng)用領(lǐng)域 電子,電氣,綜合

無(wú)掩膜曝光機(jī)-光刻機(jī)

美國(guó)IMP(Intelligent Micro Patterning,LLC)公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無(wú)掩模曝光技術(shù),,已成為無(wú)掩模紫外光刻領(lǐng)域的。國(guó)內(nèi)參考用戶較多,!

    產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn):
    微米和亞微米光刻,最小0.6微米光刻精度
     紫外光直寫曝光,無(wú)需掩模,,大幅節(jié)約了掩模加工費(fèi)用
    靈活性高,,可直接通過(guò)電腦設(shè)計(jì)光刻圖形,,并可根據(jù)設(shè)計(jì)要求隨意調(diào)整。
     可升級(jí)開放性系統(tǒng)設(shè)計(jì),。
     按照客戶要求可從低端到定制,,自由配置
    使用維護(hù)簡(jiǎn)單, 設(shè)備耗材價(jià)格低。
     應(yīng)用范圍廣,,目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體,、生物芯片、微機(jī)電系統(tǒng),、傳感器,、微化學(xué)、光學(xué)等領(lǐng)域,。

   SF-100 型
     可配置汞燈光源和LED光源,多種波長(zhǎng)曝光(385nm, 405nm)

目鏡最小像素 1um
     1.25 micron with 4X reduction lens
     0.50 micron with 10X reduction lens
     0.25 micron with 20X reduction lens

無(wú)掩膜曝光機(jī)-光刻機(jī)

平臺(tái)參數(shù)
     全自動(dòng)電腦控制位移
     高精度三維線性驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)


X and Y 軸運(yùn)動(dòng):
     移動(dòng)范圍: 100--300mm
     準(zhǔn)確性: +/-200 nm per axis
     重復(fù)性: +/- 50 nm per axis
   

Z 軸運(yùn)動(dòng):
     移動(dòng)范圍: 25 mm
     準(zhǔn)確性: +/- 200 nm
     重復(fù)性: +/- 75 nm
   

Theta 轉(zhuǎn)動(dòng):
     轉(zhuǎn)動(dòng)角度: 360 degrees
     準(zhǔn)確性: +/-5 arc sec
     重復(fù)性: +/-2 arc sec


激光共聚焦對(duì)準(zhǔn)功能




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