無(wú)掩膜曝光機(jī)-光刻機(jī)
- 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/2/27 12:03:31
- 訪問(wèn)次數(shù) 2607
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光刻機(jī),,鍍膜機(jī),磁控濺射鍍膜儀,,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測(cè)量),氣溶膠設(shè)備,,氣溶膠粒徑譜儀,,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),,快速退火爐,,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,,濾料測(cè)試系統(tǒng)
應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,電氣,綜合 |
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無(wú)掩膜曝光機(jī)-光刻機(jī)
美國(guó)IMP(Intelligent Micro Patterning,LLC)公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無(wú)掩模曝光技術(shù),,已成為無(wú)掩模紫外光刻領(lǐng)域的。國(guó)內(nèi)參考用戶較多,!
產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn):
微米和亞微米光刻,最小0.6微米光刻精度
紫外光直寫曝光,無(wú)需掩模,,大幅節(jié)約了掩模加工費(fèi)用
靈活性高,,可直接通過(guò)電腦設(shè)計(jì)光刻圖形,,并可根據(jù)設(shè)計(jì)要求隨意調(diào)整。
可升級(jí)開放性系統(tǒng)設(shè)計(jì),。
按照客戶要求可從低端到定制,,自由配置
使用維護(hù)簡(jiǎn)單, 設(shè)備耗材價(jià)格低。
應(yīng)用范圍廣,,目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體,、生物芯片、微機(jī)電系統(tǒng),、傳感器,、微化學(xué)、光學(xué)等領(lǐng)域,。
SF-100 型
可配置汞燈光源和LED光源,多種波長(zhǎng)曝光(385nm, 405nm)
目鏡最小像素 1um
1.25 micron with 4X reduction lens
0.50 micron with 10X reduction lens
0.25 micron with 20X reduction lens
無(wú)掩膜曝光機(jī)-光刻機(jī)
平臺(tái)參數(shù)
全自動(dòng)電腦控制位移
高精度三維線性驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)
X and Y 軸運(yùn)動(dòng):
移動(dòng)范圍: 100--300mm
準(zhǔn)確性: +/-200 nm per axis
重復(fù)性: +/- 50 nm per axis
Z 軸運(yùn)動(dòng):
移動(dòng)范圍: 25 mm
準(zhǔn)確性: +/- 200 nm
重復(fù)性: +/- 75 nm
Theta 轉(zhuǎn)動(dòng):
轉(zhuǎn)動(dòng)角度: 360 degrees
準(zhǔn)確性: +/-5 arc sec
重復(fù)性: +/-2 arc sec
激光共聚焦對(duì)準(zhǔn)功能