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在線量產(chǎn)型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2025/2/27 11:21:19
  • 訪問次數(shù) 1168
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在線量產(chǎn)型磁

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科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國(guó)外高科技儀器廠家在中國(guó)地區(qū)的代理,??祁9疽回灡小赫\(chéng)信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』,、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,,為廣大中國(guó)用戶提供儀器、設(shè)備,,周到的技術(shù),、服務(wù)和*的整體解決方案。在科技日新月異,、國(guó)力飛速發(fā)展的中國(guó),,納米科學(xué)研究、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長(zhǎng)和表征,、表面材料物性分析,、生物藥物開發(fā)、有機(jī)高分子合成等等領(lǐng)域,,都需要與歐美發(fā)達(dá)國(guó)家*接軌的儀器設(shè)備平臺(tái)來實(shí)現(xiàn),。科睿設(shè)備有限公司有幸成長(zhǎng)在這個(gè)火熱的年代,,我們?cè)敢饣癁橐蛔鶚蛄?,見證中國(guó)科技水平的提升,與中國(guó)科技共同飛速成長(zhǎng),。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國(guó)香港,,在中國(guó)上海設(shè)立了分公司,在國(guó)內(nèi)多個(gè)城市設(shè)立了辦事處或維修站,,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù),。2010年,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉庫及維修中心,,同時(shí)提供在大陸的各項(xiàng)技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),,我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,并且都曾到國(guó)外廠家進(jìn)行了專門的培訓(xùn),。上海配備了多種維修部件,,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便。我們承諾24小時(shí)電話響應(yīng),,72小時(shí)內(nèi)趕到現(xiàn)場(chǎng)維修。以利于更好,、更快的為中國(guó)大陸服務(wù),!
      因?yàn)樾湃?所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國(guó)內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),,主要用戶包括:中科院物理所,,中科院半導(dǎo)體所,中科院大連化學(xué)物理研究所,,國(guó)家納米中心,,上海納米中心,,北京大學(xué),清華大學(xué),,中國(guó)科技大學(xué),,南京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),,上海交通大學(xué),,華東理工大學(xué),浙江大學(xué),,中山大學(xué),,西安交通大學(xué),四川大學(xué),,中國(guó)工程物理研究院,,香港大學(xué),香港城市大學(xué),,香港中文大學(xué),,香港科技大學(xué)等。



光刻機(jī),,鍍膜機(jī),,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測(cè)量),,氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),,原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,,氣溶膠發(fā)生器,,稀釋器,濾料測(cè)試系統(tǒng)

應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子,電氣,綜合

在線量產(chǎn)型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

在線量產(chǎn)型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

儀器簡(jiǎn)介:

在線量產(chǎn)型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
·  高轉(zhuǎn)換效率
· 大容量吸收,,電池可靠性長(zhǎng)達(dá)10年
· 抗輻射
· 低成本的基片和復(fù)合基片


技術(shù)參數(shù):

1. 真空腔體模塊
a. 主沉積腔, 1 SET
- 形狀 & 尺寸 : 前開門式 (Φ500 x H600 mm)
- 蒸發(fā)源口徑 : effusion cell 5 ea (CF4.5” 4ea, CF6” 1ea)
- 接口 : 可視窗 (帶擋板), 泵抽氣口, 前加熱器,表頭, 排空口, 基片擋板,  T/C 口, 樣品轉(zhuǎn)移口,高溫計(jì),備用 E-Cell port (CF4.5” 2ea), T/M 傳感器
- 外部水冷
-  內(nèi)部保護(hù)蓋
b. 樣品轉(zhuǎn)移腔
- 腔體: 前開門式(Φ150 x H200 mm)
- 基片夾具:  可夾100X100 mm2 基片
- 磁力桿傳送基片
- 接口: 泵,排空,表頭,可視窗,閥,備用etc.
- MFC(Ar 10,000 sccm) 和花傘噴淋吹掃

c. 基片樣品臺(tái)模塊, 1 SET
- 基片尺寸 : Φ150 mm (100X100 mm2 x 1片)
- 基片加熱模塊 : SiC加熱器 , 最高 700 ℃
- 基片加熱功率 (40A x 60V)
- 溫度顯示,溫度指示
- 前加熱器模塊
- 包括擋板
- Z軸移動(dòng), 轉(zhuǎn)動(dòng)

2. 真空模塊
a. 真空泵
 Rotary泵: 600 l/min,用于粗抽主樣品沉積腔
 冷凝泵, N2 2400 l/sec,用于高真空和沉積工作
b.  真空閥和泵的管道
 圓形閘板閥, 10 英寸,用于冷凝泵
 圓形閘板閥, 10 英寸,用于樣品轉(zhuǎn)移腔
 右角閥
 粗抽泵,用于樣品轉(zhuǎn)移腔
 高真空閥
 排空閥  
c. 真空測(cè)試
離子規(guī),用于主腔體高真空測(cè)試 , 1 set
 Convection計(jì), 用于主腔體粗抽低真空測(cè)試, 2 set
d. 膜厚監(jiān)控系統(tǒng)
 石英振蕩型沉積控制器,6通道,(CYGNUS controller)
 共沉積模式監(jiān)控 : 可測(cè)試 4個(gè)蒸發(fā)源
 共沉積速率模式監(jiān)控 : 可測(cè)試 4個(gè)蒸發(fā)源
 單個(gè)晶體傳感器: 4 set
 測(cè)試分辨率: 0.5 ?
 厚度顯示范圍: 0 to 999.9 k?
 厚度準(zhǔn)確度: 0.5%
 屏幕參數(shù)顯示

3. 蒸發(fā)源模塊
a. EFFUSION CELL SOURCE & 電源 : 4 SET
- 蒸發(fā)源 : Effusion cell ( for Cu, In,Ga,Se)

4. 系統(tǒng)控制模塊
- 手動(dòng)過程控制及可升級(jí)至自動(dòng)過程控制
- 硬件: PLC, PC
- 安全自鎖, 用于電路,壓縮氣體,冷卻水循環(huán),泵及閥,, etc
- 基片溫度顯示: 曲線圖和高溫計(jì), etc.
- 系統(tǒng)狀態(tài)顯示屏

5. 主機(jī)框架及控制柜
- 整體機(jī)器被可移動(dòng)的顯示屏罩著
- 框架下有可調(diào)節(jié)支腿- 電源 (壓力規(guī), 蒸發(fā)源的電源etc.)
- 19" 支架用于控制屏及控制器



主要特點(diǎn):

CIGS 沉積系統(tǒng)的主要特點(diǎn):
1. 沉積厚度: 可達(dá)幾個(gè)微米u(yù)p to several micron
2. 沉積材料: CIGS(Cu, In, Ga, Se), etc..
3. 膜厚均勻性: ≤ ± 5 % 在 100X100 mm2 基片上
4. 基片: Soda-lime glass, SUS foil, etc..
5. 沉積模式: 在基片加熱過程中,,使用 Effusion cell 蒸鍍
6. 產(chǎn)量: 100X100 mm2 x 1sheet/ batch, 手動(dòng)
7. 真空度: 極限真空 3 x 10 -7 Torr
8. 真空腔: 樣品轉(zhuǎn)移腔和主沉積腔
9. 控制系統(tǒng): 基于 PLC and PC上的手動(dòng)操作
10. 目的: 研究及發(fā)展(R&D)




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