離子束刻蝕設(shè)備
- 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2025/2/27 11:17:24
- 訪問次數(shù) 1821
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光刻機,,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),氣溶膠設(shè)備,,氣溶膠粒徑譜儀,,等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),,原子層沉積系統(tǒng)(ALD),,快速退火爐,,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,,濾料測試系統(tǒng)
應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,電氣,綜合 |
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離子束刻蝕設(shè)備
儀器應(yīng)用:
離子拋光
離子清洗
等離子體灰化
等離子體氧化,、氮化
表面改性
反應(yīng)刻蝕
生物醫(yī)藥
傳感器
離子束刻蝕設(shè)備技術(shù)參數(shù):
1,真空系統(tǒng):
尺寸: 72英寸X 50英寸
真空泵:分子泵+機械泵
本底真空:1X10E-7Torr
2,, 樣品臺:
樣品大?。?50mm
處理角度:0-180度
旋轉(zhuǎn)速度:0-20RPM
冷卻:水冷
3, 離子源
孔徑:22厘米
柵格:2個,,鉬材質(zhì)
激發(fā):RF射頻
電性中和:PBN
束流: 200-1000V,, 0-1000mA
工作氣體:Ar,Xe,N2,O2,CF4,SF6,CH4,C2H6
SIMS終點監(jiān)測
主要特點:
RF or DC 離子源, 8-22厘米Gridded Kaufman離子源
單片樣品傳輸腔
高效率高產(chǎn)量,,低能量等離子體源
最大直徑至150毫米樣品表面處理
<3% 非均勻性
水冷,,傾斜,旋轉(zhuǎn)
操作簡便,,小型設(shè)備,,皮實耐用
SIMS終點監(jiān)測
全部電腦操作
反應(yīng)離子刻蝕
單片樣品臺/三片行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺