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光刻機(jī)/紫外曝光機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2025/2/27 11:05:16
  • 訪問次數(shù) 2608
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光刻機(jī)/紫外曝光機(jī)

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科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理??祁9疽回灡小赫\信』,、『品質(zhì)』、『服務(wù)』,、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,,為廣大中國用戶提供儀器、設(shè)備,,周到的技術(shù),、服務(wù)和*的整體解決方案。在科技日新月異,、國力飛速發(fā)展的中國,,納米科學(xué)研究、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長和表征,、表面材料物性分析,、生物藥物開發(fā)、有機(jī)高分子合成等等領(lǐng)域,,都需要與歐美發(fā)達(dá)國家*接軌的儀器設(shè)備平臺來實(shí)現(xiàn),。科睿設(shè)備有限公司有幸成長在這個(gè)火熱的年代,,我們愿意化為一座橋梁,,見證中國科技水平的提升,,與中國科技共同飛速成長。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國香港,,在中國上海設(shè)立了分公司,,在國內(nèi)多個(gè)城市設(shè)立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù),。2010年,,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉庫及維修中心,同時(shí)提供在大陸的各項(xiàng)技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),,我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,,并且都曾到國外廠家進(jìn)行了專門的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件,,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便,。我們承諾24小時(shí)電話響應(yīng),72小時(shí)內(nèi)趕到現(xiàn)場維修,。以利于更好,、更快的為中國大陸服務(wù)!
      因?yàn)樾湃?所以理解.我們理解用戶的困難和需求,。我們已經(jīng)為國內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),,主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導(dǎo)體所,,中科院大連化學(xué)物理研究所,,國家納米中心,上海納米中心,,北京大學(xué),,清華大學(xué),中國科技大學(xué),,南京大學(xué),,復(fù)旦大學(xué),上海交通大學(xué),,華東理工大學(xué),,浙江大學(xué),中山大學(xué),,西安交通大學(xué),,四川大學(xué),中國工程物理研究院,,香港大學(xué),,香港城市大學(xué),香港中文大學(xué),,香港科技大學(xué)等,。



光刻機(jī),,鍍膜機(jī),磁控濺射鍍膜儀,,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),氣溶膠設(shè)備,,氣溶膠粒徑譜儀,,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),,快速退火爐,,氣溶膠發(fā)生器,,稀釋器,,濾料測試系統(tǒng)

應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子,電氣,綜合

光刻機(jī)/紫外曝光機(jī)

儀器簡介:
  光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) (Mask Aligner)
  原產(chǎn)國: 韓國MIDAS公司,一能做到圖形化藍(lán)寶石襯底(PSS)光刻機(jī),,高性價(jià)比
  型號:MDA-400M, MDA-60MS

   又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng),,光刻機(jī),,紫外曝光機(jī)等;
MIDAS為全球*的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,,多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn),,并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子,、生物器件和納米科技領(lǐng)域,;該公司是目前較早將光刻機(jī)商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力,;并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè),、研發(fā)中心、研究所和高校所采用,;以優(yōu)秀的技術(shù),、精秀的工藝和良好的服務(wù),贏得了用戶的青睞,。
   感謝南開大學(xué),,中科院半導(dǎo)體所,中科院長春應(yīng)化所,中科院物理所,,浙江師范大學(xué)使用此設(shè)備做課題研究?。?/strong>
   此型號光刻機(jī)是所有進(jìn)口設(shè)備中性能價(jià)格比最高的型號,,達(dá)到歐美品牌的對準(zhǔn)精度,,CCD顯示屏對準(zhǔn)更為方便,,液晶觸摸屏操作,采用歐司朗紫外燈,,壽命長,。整機(jī)效果皮實(shí)耐用,正常使用3年內(nèi)不會出問題??!
   目前,上海藍(lán)光已采用該公司全自動型光刻機(jī)做LED量化生產(chǎn),,證明其品質(zhì)達(dá)到LED產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)要求?。《乙呀?jīng)成功提供圖形化藍(lán)寶石襯底(PSS)光刻工藝設(shè)備

技術(shù)參數(shù):
- 基片尺寸:4,、6,、8、12,、25英寸,,其他尺寸可定制;
- 光束均勻性:<±3%,;
- 曝光時(shí)間可調(diào)范圍:0.1 to 999.9秒,;
- 對準(zhǔn)精度:0.6-1微米
- 分辨率:1微米;
- 光束輸出強(qiáng)度:15-25mW/cm2,;


項(xiàng)目技術(shù)規(guī)格
曝光系統(tǒng)(Exposure System)

MDA-400M型
光源功率350W UV Exposure Light source with Power supply
分辨率- Vacuum Contact : 1um ( Thin PR@Si Wafer )
- Hard Contact : 1um
- Soft contact : 2um
- 20um Proximity: 5um
最大光束尺寸4.25×4.25 inch
光束均勻性≤ ±3% (4inch standard)
光束強(qiáng)度15~20mW/cm2 (365nm Intensity)
曝光時(shí)間可調(diào)整0.1 to 999.9 sec
對準(zhǔn)系統(tǒng)(Alignment System)對準(zhǔn)精度1um
對準(zhǔn)間隙手動調(diào)節(jié)(數(shù)字顯示)
光刻模式真空, 硬接觸, 軟接觸,,漸進(jìn)(Proximity)
卡盤水平調(diào)節(jié)楔形錯(cuò)誤補(bǔ)償Wedge Error Compensation
真空卡盤移動X, Y: 10 mm, Theta: ±5°
Z向移動范圍10mm
接近調(diào)整步幅1um
樣品(Sample)基底 Substrate2, 3, 4 inch
掩模板尺寸4 and 5 inch
Utilities真空 Vacuum< -200 mbar (系統(tǒng)包含真空泵)
壓縮空氣 CDA> 5Kg/cm2
氮?dú)?N2>3Kg/cm2
電源 Electricity220V, 15A, 1Phase
顯微鏡及顯示器
CCD and Monitor
Dual CCD zoom microscope and LCD (17inch) monitor; Magnification : 80x ~ 1000x;

主要特點(diǎn):
- 光源強(qiáng)度可控;
- 紫外曝光,,深紫外曝光(Option),;
- 系統(tǒng)控制:手動、半自動和全自動控制,;
- 曝光模式:真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式,;
- 真空吸盤范圍可調(diào);
-技術(shù):可雙面對準(zhǔn),,可雙面光刻,,具有IR和CCD模式
- 兩個(gè)CCD顯微鏡系統(tǒng),最大放大1000倍,,顯示屏直接調(diào)節(jié),,比傳統(tǒng)目鏡對準(zhǔn)更方便快捷,易于操作,。
- 特殊的基底卡盤可定做,;
- 具有楔形補(bǔ)償功能;




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  • 其他
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