光刻機(jī)/紫外曝光機(jī)
- 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/2/27 11:05:16
- 訪問次數(shù) 2608
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光刻機(jī),，鍍膜機(jī)，磁控濺射鍍膜儀,，電子束蒸發(fā)鍍膜儀,，開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量)，氣溶膠設(shè)備,，氣溶膠粒徑譜儀,，等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)，原子層沉積系統(tǒng)(ALD),，快速退火爐,，氣溶膠發(fā)生器,，稀釋器,，濾料測試系統(tǒng)
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子,電氣,綜合 |
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光刻機(jī)/紫外曝光機(jī)
儀器簡介：
光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) (Mask Aligner)
原產(chǎn)國: 韓國MIDAS公司，一能做到圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻機(jī),，高性價(jià)比
型號：MDA-400M, MDA-60MS
又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng),，光刻機(jī),，紫外曝光機(jī)等；
MIDAS為全球*的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,，多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn),，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子,、生物器件和納米科技領(lǐng)域,；該公司是目前較早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力,；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè),、研發(fā)中心、研究所和高校所采用,；以優(yōu)秀的技術(shù),、精秀的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞,。
感謝南開大學(xué),，中科院半導(dǎo)體所,中科院長春應(yīng)化所，中科院物理所,，浙江師范大學(xué)使用此設(shè)備做課題研究?。?/strong>
此型號光刻機(jī)是所有進(jìn)口設(shè)備中性能價(jià)格比最高的型號,，達(dá)到歐美品牌的對準(zhǔn)精度,，CCD顯示屏對準(zhǔn)更為方便,，液晶觸摸屏操作，采用歐司朗紫外燈,，壽命長,。整機(jī)效果皮實(shí)耐用，正常使用3年內(nèi)不會出問題??！
目前，上海藍(lán)光已采用該公司全自動型光刻機(jī)做LED量化生產(chǎn),，證明其品質(zhì)達(dá)到LED產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)要求?。《乙呀?jīng)成功提供圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻工藝設(shè)備
技術(shù)參數(shù)：
- 基片尺寸：4,、6,、8、12,、25英寸,，其他尺寸可定制；
- 光束均勻性：<±3%,；
- 曝光時(shí)間可調(diào)范圍：0.1 to 999.9秒,；
- 對準(zhǔn)精度：0.6-1微米
- 分辨率：1微米；
- 光束輸出強(qiáng)度：15-25mW/cm2,；
| 項(xiàng)目 | 技術(shù)規(guī)格 | |
| 曝光系統(tǒng)(Exposure System) MDA-400M型 | 光源功率 | 350W UV Exposure Light source with Power supply |
| 分辨率 | - Vacuum Contact : 1um ( Thin PR@Si Wafer ) - Hard Contact : 1um - Soft contact : 2um - 20um Proximity: 5um | |
| 最大光束尺寸 | 4.25×4.25 inch | |
| 光束均勻性 | ≤ ±3% (4inch standard) | |
| 光束強(qiáng)度 | 15~20mW/cm2 (365nm Intensity) | |
| 曝光時(shí)間可調(diào)整 | 0.1 to 999.9 sec | |
| 對準(zhǔn)系統(tǒng)(Alignment System) | 對準(zhǔn)精度 | 1um |
| 對準(zhǔn)間隙 | 手動調(diào)節(jié)(數(shù)字顯示) | |
| 光刻模式 | 真空, 硬接觸, 軟接觸,，漸進(jìn)（Proximity） | |
| 卡盤水平調(diào)節(jié) | 楔形錯(cuò)誤補(bǔ)償Wedge Error Compensation | |
| 真空卡盤移動 | X, Y: 10 mm, Theta: ±5° | |
| Z向移動范圍 | 10mm | |
| 接近調(diào)整步幅 | 1um | |
| 樣品(Sample) | 基底 Substrate | 2, 3, 4 inch |
| 掩模板尺寸 | 4 and 5 inch | |
| Utilities | 真空 Vacuum | < -200 mbar (系統(tǒng)包含真空泵) |
| 壓縮空氣 CDA | > 5Kg/cm2 | |
| 氮?dú)?N2 | >3Kg/cm2 | |
| 電源 Electricity | 220V, 15A, 1Phase | |
| 顯微鏡及顯示器 CCD and Monitor | Dual CCD zoom microscope and LCD (17inch) monitor; Magnification : 80x ~ 1000x; |
主要特點(diǎn)：
- 光源強(qiáng)度可控；
- 紫外曝光,，深紫外曝光(Option),；
- 系統(tǒng)控制：手動、半自動和全自動控制,；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式,；
- 真空吸盤范圍可調(diào)；
-技術(shù)：可雙面對準(zhǔn),，可雙面光刻,，具有IR和CCD模式
- 兩個(gè)CCD顯微鏡系統(tǒng)，最大放大1000倍,，顯示屏直接調(diào)節(jié),，比傳統(tǒng)目鏡對準(zhǔn)更方便快捷，易于操作,。
- 特殊的基底卡盤可定做,；
- 具有楔形補(bǔ)償功能；
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