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電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2025/2/27 10:59:22
  • 訪問(wèn)次數(shù) 2699
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電子束蒸發(fā)系統(tǒng)

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科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國(guó)外高科技儀器廠家在中國(guó)地區(qū)的代理,??祁9疽回灡小赫\(chéng)信』、『品質(zhì)』,、『服務(wù)』,、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)用戶提供儀器,、設(shè)備,,周到的技術(shù)、服務(wù)和*的整體解決方案,。在科技日新月異,、國(guó)力飛速發(fā)展的中國(guó),納米科學(xué)研究,、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長(zhǎng)和表征,、表面材料物性分析、生物藥物開(kāi)發(fā),、有機(jī)高分子合成等等領(lǐng)域,,都需要與歐美發(fā)達(dá)國(guó)家*接軌的儀器設(shè)備平臺(tái)來(lái)實(shí)現(xiàn)??祁TO(shè)備有限公司有幸成長(zhǎng)在這個(gè)火熱的年代,,我們?cè)敢饣癁橐蛔鶚蛄海?jiàn)證中國(guó)科技水平的提升,,與中國(guó)科技共同飛速成長(zhǎng),。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國(guó)香港,在中國(guó)上海設(shè)立了分公司,,在國(guó)內(nèi)多個(gè)城市設(shè)立了辦事處或維修站,,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù)。2010年,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉(cāng)庫(kù)及維修中心,,同時(shí)提供在大陸的各項(xiàng)技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),,我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,并且都曾到國(guó)外廠家進(jìn)行了專門的培訓(xùn),。上海配備了多種維修部件,,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便。我們承諾24小時(shí)電話響應(yīng),,72小時(shí)內(nèi)趕到現(xiàn)場(chǎng)維修,。以利于更好、更快的為中國(guó)大陸服務(wù),!
      因?yàn)樾湃?所以理解.我們理解用戶的困難和需求,。我們已經(jīng)為國(guó)內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),主要用戶包括:中科院物理所,,中科院半導(dǎo)體所,,中科院大連化學(xué)物理研究所,國(guó)家納米中心,,上海納米中心,,北京大學(xué),清華大學(xué),,中國(guó)科技大學(xué),,南京大學(xué),,復(fù)旦大學(xué),,上海交通大學(xué),華東理工大學(xué),,浙江大學(xué),,中山大學(xué),西安交通大學(xué),,四川大學(xué),,中國(guó)工程物理研究院,香港大學(xué),,香港城市大學(xué),,香港中文大學(xué),香港科技大學(xué)等,。



光刻機(jī),,鍍膜機(jī),磁控濺射鍍膜儀,,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,,開(kāi)爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測(cè)量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),,原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,,氣溶膠發(fā)生器,,稀釋器,濾料測(cè)試系統(tǒng)

應(yīng)用領(lǐng)域 電子,電氣,綜合

電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

儀器簡(jiǎn)介:

全球?qū)I(yè)的沉積設(shè)備制造商,,為各個(gè)領(lǐng)域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案:電子束蒸發(fā)系統(tǒng),、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng),、分子束外延MBE,、有機(jī)分子束沉積OMBD、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Etcher,、電子回旋共振等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積,、離子泵等;


E -Beam Evaporation System
2.高真空統(tǒng)High Vacuum E -Beam Evaporation System
3.超高真空Ultra-high Vacuum (UHV) E -Beam Evaporation System
4.離子輔助蒸發(fā)系統(tǒng)Ion Beam Assisted Evaporation System
5.離子電鍍系統(tǒng)Ion Plating System
6.Cluster Tool E -Beam Evaporation System
7.在線電子束蒸發(fā)系統(tǒng)In-line E -Beam Evaporation System


電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)技術(shù)參數(shù):

1.電子束源&電源
     單個(gè)或者可自由切換換電子束源:
      --蒸發(fā)室數(shù)量 1 ~ 12(標(biāo)配: 4, 6)
      --坩堝容量:7 ~ 40 cc (最大可達(dá)200 cc)
      --標(biāo)準(zhǔn):25 cc (4 or 6 Pocket), 40 cc (4 Pocket)
      --最大:200 cc (156cc for UHV) 可用于長(zhǎng)時(shí)間的沉積
      --偏轉(zhuǎn)角度:180o, 270o
      --輸出功率:6, 10, 15, 20 kW
      --支持兩個(gè)或者三個(gè)電子束源在一個(gè)系統(tǒng)上
      --可連續(xù)或者同時(shí)沉積兩種或三種材料
      --高速率沉積

   2.薄膜沉積控制:
     IC-5 ( or XTC, XTM) 和計(jì)算機(jī)控制
     --沉積過(guò)程參數(shù)可控
     --石英晶體振蕩傳感器
     --光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)用于光學(xué)多層薄膜沉積:測(cè)量波長(zhǎng)范圍350-2000 nm,,分辨率1 nm
     --薄膜厚度檢測(cè)和處理過(guò)程可通過(guò)計(jì)算機(jī)程序控制
     --薄膜厚度檢測(cè)和沉積速率可通過(guò)計(jì)算機(jī)程序控制
     --支持大面積沉積
     --支持在線電子束蒸發(fā)沉積
     --基底尺寸:20~100英寸
     --薄膜均勻性 <±1.0 to 5.0 %

   3.真空腔體:
     --圓柱形腔體
     --直徑:φ500 ~ 1,500 mm
     --高度:800 ~ 1500 mm
     --方形腔體
     --根據(jù)客戶的需求定制

   4.真空泵和測(cè)量裝置:
     --低真空:干泵和convectron真空規(guī)
     --高真空:渦輪分子泵,,低溫泵和離子規(guī)
     --超高真空:雙級(jí)渦輪分子泵,離子泵和離子規(guī)

   5.控制系統(tǒng)PLC和 觸摸屏計(jì)算機(jī):
     --硬件: PLC, 觸摸屏計(jì)算機(jī)
     --包括模擬和數(shù)字輸入/輸出卡
     --顯示器: LCD
     --自動(dòng)和手動(dòng)程序控制
     --程序控制:加載,,編輯和保存
     --程序激活控制:
     --泵抽真空,,蒸發(fā)沉積,加熱,, 旋轉(zhuǎn)等
     --膜厚度檢測(cè)和控制多層薄膜沉積
     --系統(tǒng)狀態(tài),,數(shù)據(jù)加載等
     --問(wèn)題解答和聯(lián)動(dòng)狀態(tài)



擴(kuò)展功能:

1、質(zhì)量流量控制器:反應(yīng)和等離子體輔助惰性氣體控制
   2,、離子源和控制器:等離子體輔助沉積
   3,、射頻電源:基底預(yù)先處理
   4、溫度控制器:基底加熱
   5,、熱蒸發(fā)器:1 or 2 boat
   6,、蒸鍍?cè)碿ell:1 or 2 for doping
   7、冷卻器:系統(tǒng)冷卻





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