日韩av大片在线观看欧美成人不卡|午夜先锋看片|中国女人18毛片水多|免费xx高潮喷水|国产大片美女av|丰满老熟妇好大bbbbbbbbbbb|人妻上司四区|japanese人妻少妇乱中文|少妇做爰喷水高潮受不了|美女人妻被颜射的视频,亚洲国产精品久久艾草一,俄罗斯6一一11萝裸体自慰,午夜三级理论在线观看无码

官方微信|手機版

產(chǎn)品展廳

產(chǎn)品求購企業(yè)資訊會展

發(fā)布詢價單

化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>分析儀器>其它分析儀器>其它通用分析> 磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時間 2025/2/27 10:57:48
  • 訪問次數(shù) 1840
產(chǎn)品標簽

磁控濺射系統(tǒng)

聯(lián)系方式:張垚查看聯(lián)系方式

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,,謝謝!


科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理??祁9疽回灡小赫\信』,、『品質(zhì)』、『服務(wù)』,、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,,為廣大中國用戶提供儀器、設(shè)備,,周到的技術(shù),、服務(wù)和*的整體解決方案。在科技日新月異,、國力飛速發(fā)展的中國,,納米科學研究、薄膜材料(包括半導體)生長和表征,、表面材料物性分析,、生物藥物開發(fā)、有機高分子合成等等領(lǐng)域,,都需要與歐美發(fā)達國家*接軌的儀器設(shè)備平臺來實現(xiàn),。科睿設(shè)備有限公司有幸成長在這個火熱的年代,,我們愿意化為一座橋梁,,見證中國科技水平的提升,與中國科技共同飛速成長,。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國香港,,在中國上海設(shè)立了分公司,在國內(nèi)多個城市設(shè)立了辦事處或維修站,,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù),。2010年,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉庫及維修中心,,同時提供在大陸的各項技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),,我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓,。上海配備了多種維修部件,,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便,。我們承諾24小時電話響應(yīng),72小時內(nèi)趕到現(xiàn)場維修,。以利于更好,、更快的為中國大陸服務(wù)!
      因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求,。我們已經(jīng)為國內(nèi)眾多科研院所和大學根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),,主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導體所,,中科院大連化學物理研究所,,國家納米中心,上海納米中心,,北京大學,,清華大學,中國科技大學,,南京大學,,復旦大學,上海交通大學,,華東理工大學,,浙江大學,中山大學,,西安交通大學,,四川大學,中國工程物理研究院,,香港大學,,香港城市大學,香港中文大學,,香港科技大學等,。



光刻機,鍍膜機,,磁控濺射鍍膜儀,,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),,氣溶膠設(shè)備,,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),,原子層沉積系統(tǒng)(ALD),,快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,,濾料測試系統(tǒng)

應(yīng)用領(lǐng)域 電子,電氣,綜合

儀器簡介:

全球?qū)I(yè)的沉積設(shè)備制造商,,為各個領(lǐng)域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案:電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng),、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng),、分子束外延MBE,、有機分子束沉積OMBD

磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

1.靜態(tài)濺射系統(tǒng)(Static Sputtering System)

2.磁控共濺鍍系統(tǒng)(Co-Sputtering System)

3.反應(yīng)射頻磁控濺射鍍膜系統(tǒng)(Reactive Sputtering System)

4.Rotating Planarity Sputtering System

5.Rotating Drum Sputtering System

6.Cluster Tool Sputtering System

7.在線濺射系統(tǒng)(In-line Sputtering System)



技術(shù)參數(shù):

1.磁控濺射槍和電源:
?圓形濺射槍
--濺射槍:1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 10, 12, 13 inch
--超高真空濺射槍:1, 2, 3, 4 inch
?永磁體:NdFeB
--固定磁體:薄膜均勻性<±3.0 %
--移動磁體:薄膜均勻性<±1.5 %
?陰極:OFHC Copper
?矩形濺射槍
--寬:1,5 to 4 inch (to 10 inch for double erosion)
--長度:5 to 25 inch (to 120 inch for large planar area deposition)
--永磁體:NdFeB
--陰極:OFHC Copper
?電源
?直流電源:1 to 20 kW
?中頻電源: 1 to 20 kW
?射頻電源:0.3 to 15 kW

2.薄膜沉積控制:
?IC-5 and PC Control
--沉積參數(shù)控制
--石英晶體振蕩傳感器-Single, dual or six sensor
?膜厚監(jiān)控和沉積過程計算機控制
?膜厚監(jiān)控和沉積速率計算機控制
?大面積沉積(如 ITO上沉積LCD)
?可升級為在線
?基底尺寸:20 up to 120 inch
?質(zhì)量流量和自動壓力控制
--質(zhì)量流量控制器:多種氣體控制
?Baratron真空規(guī):用于等離子體處理
?節(jié)流閥和控制器

3.真空室:
?圓柱形腔體
--直徑: φ300 ~ 2,000 (Substrate : 2 to 12 inch, 1 to 400 sheets)
--高度: 500 mm
?方形腔體
?根據(jù)客戶需求定制
?帶自動樣品遞送裝置的Loadlock樣品加載室

4.真空泵和測量裝置:
?低真空:干泵和convectron真空規(guī)
?高真空:渦輪分子泵,,低溫泵和離子規(guī)

5.控制系統(tǒng):
?硬件:PLC和計算機觸摸屏控制
?自動和手動沉積控制



主要特點:

?射頻電源:基底預先清洗和等離子體輔助沉積
?溫度控制器:基底加熱
?大面積基底傳送裝置
?冷卻系統(tǒng)




化工儀器網(wǎng)

采購商登錄
記住賬號    找回密碼
沒有賬號?免費注冊

提示

×

*您想獲取產(chǎn)品的資料:

以上可多選,,勾選其他,,可自行輸入要求

個人信息:

溫馨提示

該企業(yè)已關(guān)閉在線交流功能