脈沖激光沉積鍍膜系統(tǒng)(PLD)

儀器簡介：
PLD是將脈沖激光透過合成石英窗導入真空腔內照射到成膜靶上,，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜,。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構造的人工合成新材料,。
我們PLD系統(tǒng)擁有好的性能價比,具有以下優(yōu)異的性能:

1. 主真空室腔體直徑18英寸，本底真空可達高真空：9X10E-9 Torr（要用Load-lock）,。

2. 主真空室抽氣系統(tǒng)前級泵采用無油干泵

3. ★基片加熱溫度最高可達1000℃,。

4. 基片臺可360度旋轉（轉速1-20rpm可調）。

5. ★基片與靶之間方位采用靶在下方,，基片在上方,，均水平放置?；c靶間距沿Z軸（即垂直地面方向）可調,。

6. 8個裝1英寸靶的坩堝（或靶盤），各坩堝之間要求相互隔離,，不互相污染,。

7. ★激光器：Coherent 公司COMPexPro 201：Wavelength: 248 nm (KrF)；Pulse Energy：700mJ,；Max. Rep. Rate ：10 Hz,；Energy stability (one sigma) : 1%； Average Power: 5W,；Pulse Duration: 25 ns；Beam Dimensions(V×H): 24×10 mm,；Beam Divergence(V×H): 3×1 mrad.

8. ★ Dual Load Lock System, 兩次裝樣-送樣系統(tǒng),，高效保證傳片精準

9. 設備及光學臺可聯(lián)接在一起，始終保持腔體和激光束位置穩(wěn)定,。支撐腿帶可調節(jié)的轉輪,，方便在地面整體（包括腔體系統(tǒng)和激光器）同時移動與固定。

感謝上海交通大學 使用此研究級高性能的PLD系統(tǒng)（購買5套）,， 望我們高性能價格比的PLD為廣大科研人員提供幫助?。?/strong>
脈沖激光沉積鍍膜系統(tǒng)(PLD)
具體配置:
一,， 超高真空腔體
二,， 分子泵
三， 激光掃描系統(tǒng)
四,， 襯底加熱鉑金片,，最高可達1200度
五，基板加熱構造設計
六,， 基板加熱電源
七,， Rheed
八,， Rheed軟件
九， 多靶位 ,，標準配置6個1英寸靶
十,，Load-Lock樣品傳輸腔體

技術參數(shù)：
一， 靶,。
數(shù)量6個,，大小1-2英寸，被激光照射時可自動旋轉,，靶的選擇可通過步進電機控制,。
二， 基板,。
采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片,，大小2英寸，加熱溫度可達1200攝氏度,，溫度差<3%,，加熱時基板可旋轉，工作環(huán)境最大壓力是300mtorr,。
三,， 基板加熱電源。
四,， 超高真空成膜室腔體,。
不銹鋼sus304材質，內表面電解拋光,，本底真空度<5e-7 pa,。
五， 樣品傳輸室,。
不銹鋼sus304材質,，內表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa,。
六,， 排氣系統(tǒng)。
分子泵和干式機械泵,，進口品牌,。
七， 閥門,。
采用超高真空擋板閥,。
八， 真空檢測,。
真空計采用進口產(chǎn)品
九,， 氣路兩套,。
采用氣體流量計（MFC）。
十,， 薄膜成長監(jiān)控系統(tǒng),。
采用掃描型Rheed（可差分抽氣）。
十一,， 監(jiān)控軟件系統(tǒng),。
基板溫度的監(jiān)控和設定，基板和靶的旋轉,，靶的更換,。
十二， 各種電流導入及測溫端子,。
十三,， 其它各種構造
各種超高真空位移臺，磁力傳輸桿,，超高真空法蘭,，超高真空密封墊圈，超高真空用波紋管等,。

另外我公司注重發(fā)展和銷售大面積的PLD 系統(tǒng)和電子束蒸發(fā)器和濺射沉積,。目前，公司提供以下物理氣相沉積系統(tǒng)和元件產(chǎn)品：
? 大面積脈沖激光沉積系統(tǒng)
? 脈沖激光沉積元件包括靶材操縱器和智能窗
? 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
? 磁控和/或離子束濺射系統(tǒng)
? 組合沉積系統(tǒng)
? 定制的基底加熱器
產(chǎn)品具有如下基本特點：
1. 系統(tǒng)可根據(jù)客戶的特殊要求設計,，操作簡單方便,。可使用大尺寸靶材生長大面積薄膜,，基底的尺寸直徑可從50mm 到200mm
2. 電拋光腔體,，主腔呈方形，其前部是鉸鏈門,，方便更換基底和靶材
3. 雙軸磁性耦合旋轉靶材操縱器，可手動或計算機控制選定靶材,。磁力桿傳送基底到基底旋轉器上,，可手動或電動降低旋轉器，實現(xiàn)簡單快速地更換
4. 主腔室預留備用的腔口,，如用于觀察靶材和基底,，安裝原子吸收或發(fā)射光譜儀、原位橢偏儀,、離子槍或磁控濺射源,、殘留氣體分析器和離子探針或其他的元件等等
5. 系統(tǒng)使用程序化的成像鏈(Optical Train) ，包括聚焦透鏡,、反射鏡臺,、動力反射鏡支撐架和智能視窗等,，無需頻繁地校準光學組件。在激光通過大直徑靶材時可使其光柵掃描化（rastering）,，以獲得均勻性的薄膜,。智能視窗不僅可精確監(jiān)視沉積過程中的靶材激光注入量（OTLF），而且可長時間保持激光束光路的清潔
6. 系統(tǒng)使用*的黑體基底加熱設計,，高溫下（950°C）可與銀膠兼容使用
根據(jù)PLD 客戶的不同需求,，提供以下型號：
1．NANO PLD
2．PLD 3000
3．PLD 5000
4．PLD 8000
5．PLD T100
其中NANO PLD 系統(tǒng)簡單、緊湊,，具有多種功能,，非常適合小型的研發(fā)實驗室，大面積 PLD 系統(tǒng)包括PLD 3000,，PLD5000,，PLD8000 非常適合于大的公共機構，政府實驗室和國防機構的研發(fā)和試制生產(chǎn),。PLD T100 系統(tǒng)也就是高溫超導帶涂層系統(tǒng)非常適合于生產(chǎn)高溫超導帶和線纜,，目前已有兩套系統(tǒng)賣到日本國際超導產(chǎn)業(yè)技術研究中心超導工學研究所（SRL-ISTEC），而且在高溫超導線纜中獲得了記錄電流密度,，創(chuàng)高溫超導線材創(chuàng)新記錄,。

大面積PLD 的每個系統(tǒng)的具體一些參數(shù)如下：

這些型號的設備適用于以下的客戶群：
1) 高溫超導研發(fā)-----合成新的高溫超導材料或者微調高溫超導材料
2) 高溫超導工業(yè)研發(fā)-----高溫超導線纜和帶沉積，移動通信的微波過濾器,，電力分配網(wǎng)的錯誤電流限制器,，超導磁能存儲器(SMES)，超導量子干涉磁量儀元素制作,，超導電子配件,，磁共振成像應用，磁懸浮如火車
3) 鐵電材料和設備-----使用大面積的PLD 研發(fā)
4) 電-光和光學材料-----電鍍鉻材料,，電-光材料如PLZT, BST 等
5) 電介材料---如AlN 薄膜
6) 硬質薄膜----如TiCxN(1-x) 薄膜
7) 透明導電氧化物 (TCO) 沉積
8) 測輻射熱敏元素生產(chǎn)商----用于熱跟蹤的熱探測,，熱成像，熱度量衡等
9) 制備新材料特別是功能陶瓷
10) 制備納米粒子
11) 基質輔助脈沖激光蒸發(fā)(MAPLE)聚合物薄膜
12) 制備用于MRAMs 和錄音磁頭上GMR 的鐵磁材料等