CM 無(wú)菌生長(zhǎng)因子高剪切勻漿機(jī)
參考價(jià) | ¥ 99900 |
訂貨量 | ≥1 |
- 公司名稱 上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
- 品牌
- 型號(hào) CM
- 產(chǎn)地 上海
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/7/22 7:25:38
- 訪問(wèn)次數(shù) 209
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乳化機(jī),,均質(zhì)機(jī),,分散機(jī),剪切機(jī),,膠體磨,,粉液混合機(jī),攪拌機(jī),,實(shí)驗(yàn)室分散乳化機(jī),,中試型膠體磨,真空乳化機(jī)
無(wú)菌生長(zhǎng)因子高剪切勻漿機(jī),,微生物代謝調(diào)節(jié)生長(zhǎng)因子高剪切勻漿機(jī),,生長(zhǎng)因子藥品高速勻漿機(jī),立式高剪切勻漿機(jī),,生長(zhǎng)因子均質(zhì)勻漿機(jī),,重組人表皮細(xì)胞生長(zhǎng)因子剪切勻漿機(jī),上海依肯高速勻漿機(jī),,研發(fā)型納米勻漿機(jī),,小型均質(zhì)勻漿機(jī)的輸入剪切能大,可實(shí)現(xiàn)10微米及以下粒度,。詳詢上海依肯 工程師 林萬(wàn)翠
生長(zhǎng)因子是一類調(diào)節(jié)微生物正常生長(zhǎng)代謝所必需,,但不能用簡(jiǎn)單的碳、氮源自行合成的有機(jī)物,。廣義的生長(zhǎng)因子除了維生素外,,還包括堿基、嘌呤,、嘧啶,、生物素和煙酸等,有時(shí)還包括氨基酸營(yíng)養(yǎng)缺陷突變株所需要的氨基酸在內(nèi),;而狹義的生長(zhǎng)因子一般僅指維生素,。一類通過(guò)與特異的、高親和的細(xì)胞膜受體結(jié)合,,調(diào)節(jié)細(xì)胞生長(zhǎng)與其他細(xì)胞功能等多效應(yīng)的多肽類物質(zhì),。存在于血小板和各種成體與胚胎組織及大多數(shù)培養(yǎng)細(xì)胞中,對(duì)不同種類細(xì)胞具有一定的專一性,。通常培養(yǎng)細(xì)胞的生長(zhǎng)需要多種生長(zhǎng)因子順序的協(xié)調(diào)作用,,腫瘤細(xì)胞具有不依賴生長(zhǎng)因子的自主性生長(zhǎng)的特點(diǎn)。
普通勻漿膠體磨zui高轉(zhuǎn)速2930轉(zhuǎn),,適用于制備要求不高,,附加值不高,量大的產(chǎn)品,而進(jìn)口勻漿膠體磨轉(zhuǎn)速9000轉(zhuǎn)以上適用于中端產(chǎn)品,,附加值相對(duì)較高,,量大的產(chǎn)品,目前上海依肯勻漿膠體磨,,設(shè)備轉(zhuǎn)速達(dá)14000轉(zhuǎn),,zui高可達(dá)21000轉(zhuǎn),廣泛活躍在高端產(chǎn)品市場(chǎng),,其中制藥,、新材料研發(fā)等應(yīng)用較多。
上海勻漿膠體磨通過(guò)皮帶傳送,,可實(shí)現(xiàn)2到3倍的加速,,同時(shí)立式直立的轉(zhuǎn)軸,運(yùn)轉(zhuǎn)穩(wěn)定性大大提高,,同時(shí)轉(zhuǎn)子動(dòng)平衡性得到提高,,間隙也允許縮小而不產(chǎn)生摩擦。因此立式濕法粉碎機(jī)有的乳化分散粉碎效果,。根據(jù)其定轉(zhuǎn)子剪切的原理,,還可以實(shí)現(xiàn)固體物料在液體介質(zhì)中的粉碎,chao細(xì)物料的均勻分散,,以及加速大分子物質(zhì)的溶解,。經(jīng)過(guò)特別設(shè)計(jì)的高剪切膠體磨也可以成為反應(yīng)發(fā)生的場(chǎng)所,比如兩種液體物料反應(yīng)生成固體顆粒,,通過(guò)分別通入腔體,,兩種物料接觸時(shí)被剪切成微滴,均勻混合后反應(yīng)生成的粒子大小均勻,,并且粒徑很小,。
用轉(zhuǎn)子-定子裝置濕磨物質(zhì)具有諸多好處:
· 研磨得到的細(xì)顆粒被直接融合到懸浮液中,因而從開(kāi)始就避免了灰塵的形成,。
· 與干磨系統(tǒng)不同,,被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi),從而大幅減少了損失,。因此,,濕磨非常適合有機(jī)化學(xué)品,尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì),,或者有毒物質(zhì)的研磨,。
· 相對(duì)干磨過(guò)程而言,濕磨的產(chǎn)品進(jìn)料和計(jì)量較容易,。
從設(shè)備角度分析,,影響勻漿研磨效果的因素:
1 磨頭的形式(臥式和立式)
2 磨頭的剪切速率
3 磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(見(jiàn)磨頭結(jié)構(gòu))
4 物料在磨頭墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間
5 循環(huán)次數(shù)
研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,,研磨速率取決于以下因素:
- 磨頭的線速率
- 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距,。 (相對(duì)而言)
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
為了定制過(guò)程,IKN根據(jù)眾多客戶需求,,提供下列實(shí)驗(yàn)室及生產(chǎn)用解決方案:
· 三級(jí)高剪切分散機(jī)ER濕磨
· 膠體磨CM濕磨
· 錐體磨CMO濕磨
· CMD2000濕法粉碎機(jī)
該機(jī)型采用衛(wèi)生級(jí)不銹鋼材質(zhì),精工制作,,在保證濕法超細(xì)粉碎效果的基礎(chǔ)上,,zui大程度確保了設(shè)備的穩(wěn)定性。
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