銀漿膠體磨，納米銀漿膠體磨,，銀漿高速膠體磨,，銀漿管線式膠體磨，SGN銀漿膠體磨采用*的結構設計,，磨頭精密度高,，并配合超高速的轉(zhuǎn)速，zui高轉(zhuǎn)速可達14000rpm,，研磨分散效果更佳,。
 

銀漿系由高純度的(99.9% )金屬銀的微粒、粘合劑,、溶劑,、助劑所組成的一種機械混和物的粘稠狀的漿料。導電銀漿對其組成物質(zhì)要求是十分嚴格的,。其品質(zhì)的高低,、含量的多少，以及形狀,、大小對銀漿性能都有著密切關系,。銀粉的分散效果直接關系到銀漿的質(zhì)量。所以采用好的分散設備對銀粉的分散是至關重要的,，當然分散劑的應用也是*的,。
 

納米銀漿分散混合設備，納米銀粉分散,，銀粉比表面積較大,，易發(fā)生團聚很難分散，如何將銀粉制成銀漿,？銀漿的制備,，炭黑的制備,，銀粉的分散，炭黑的分散,，高剪切分散機可幫您解決此類難題,。結合客戶實驗案例，采用SGN研磨分散機進行銀粉處理,，不僅生產(chǎn)效率快,，一般研磨5-10遍即可；而且這種方式相對于三輥機以及砂磨機而言,，物料損失更小,。

銀漿膠體磨,，納米銀漿膠體磨，銀漿高速膠體磨GM2000系列特別適合于膠體溶液,、超細懸浮液和乳液的生產(chǎn),。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，GM在摩擦狀態(tài)下工作,，也就被稱做濕磨,。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中,，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,，因此可以達到更好的研磨分散的效果。GM2000整機采用良好幾何機構的研磨定轉(zhuǎn)子,，更好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

高剪切膠體磨在電動機的高速轉(zhuǎn)動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū),，通過一種特殊粉碎裝置,，將流體中的一些大粉團、粘塊,、團塊等大小顆粒迅速破碎,，然后吸入剪切粉碎 區(qū),，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等,。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎,。精磨區(qū)分三級,，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小,，線速度越長,，物料越磨越細,，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化,，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切,、強烈摩擦、擠壓研磨,、顆粒粉碎等,，在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后,，從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂,、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散,、粉碎,、乳化、均質(zhì),、細化的目的,。液料的zui小細度可達0.5um。

SGN膠體磨結構：三道磨碎區(qū)：一級為粗磨碎區(qū),，二級為細磨碎區(qū),，三級為超微磨碎區(qū)。

我們的磨頭的結構：溝槽的結構式斜齒,，每個磨頭的溝槽深度不一樣,，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣,，流道體積是一樣大,，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨,，而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果,。

          
GM2000系列高剪切膠體磨的特點：

1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。

2,、齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,，范圍比較大，范圍越大,，處理的物料顆粒大小越廣,。

3、溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣,，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,。

 
GM2000系列高剪切膠體磨選型表

注：流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,，同事流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

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