微量高壓光化學反應釜
- 公司名稱 上海巖征實驗儀器有限公司
- 品牌 巖征儀器
- 型號
- 產(chǎn)地 上海松江區(qū)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/5/22 14:10:49
- 訪問次數(shù) 1829
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 工作壓力 | 高壓 |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 面議 | 儀器材質(zhì) | 其它 |
微量高壓光化學反應釜裝置包含：光源設備,、光化學反應釜,、光源及釜體溫控攪拌三大模塊組成。用于新能源及環(huán)境領域的高溫高壓光化學催化,、合成,、降解等反應。如：光解水制氫,，光催化還原二氧化碳制甲醇,，光解水，二氧化碳還原制甲烷,、氮氧化物的還原降解,、甲醛的高壓光催化降解等。特別適用少量樣品的反應,，是昂貴或低產(chǎn)量樣品光催化,，降解，還原的理想反應裝置,。
微量高壓光化學反應釜*技術特點：
1,、光源可按照客戶要求選擇，采用LCD10.1英吋液晶觸摸控制器,，光源光電參數(shù)及光化學反應的溫度,，攪拌等參數(shù)實時數(shù)字顯示在屏幕上，國內(nèi)*,。
2,、更高的使用壓力及溫度設計，普通廠家提供壓力：3mpa,，溫度為200℃的設計,，巖征公司提供設計壓力于普通廠家4倍的安全壓力釜體設計。
3,、更專業(yè)的光化學釜體設計：釜體包含壓力表,、防爆裝置,、進氣閥門,、取樣閥門,，溫度測溫探桿，耐壓透光視窗6大齊全部件,，全方面監(jiān)控及采集您所需要的技術參數(shù),。
4、采用頂入式光源設計,，特制防霧雙層JGS2光學級透光視窗,，可特別選用藍寶石視窗。
5,、嵌入式一體加熱模塊結(jié)構,，加熱更均勻。釜體,、加熱器可*分離,。極大的方便了反應釜的拆卸工作，提高工作效率,。
6,、更全面的光化學反應釜的材質(zhì)選擇，除了提供普通廠家提供的SU316L材質(zhì)的釜體外,，還提供不銹鋼內(nèi)襯teflon,，鈦材，鎳材,，哈氏合金等非標材質(zhì)釜體的定做,。
巖征儀器 微量光化學高壓反應釜型號為：YZ-GHX-HP系列，對應容積分別有10ml,25ml,，50ml,100ml,，250ml,500ml六款可選。
巖征儀器 微量光化學高壓反應釜技術參數(shù)表：
| 型號 | YZ-GHX-HP系列 |
| 容 積 | 10,、25,、50、100,、250,、500ml可選 |
| 工作溫度 | 300℃以內(nèi) |
| 工作壓力 | 10mpa以內(nèi) |
| 光源類型 | 紫外及模擬太陽光源 |
| 透光孔材質(zhì) | JGS2光學級石英或藍寶石晶體 |
| 加熱方式 | 模塊加熱加熱更均勻，釜體,，加熱模塊可輕松分離,。 |
| 加熱功率 | 0.5-1KW |
| 攪拌速度 | 0－1500rpm |
| 攪拌方式 | 內(nèi)部磁力攪拌 |
| 材質(zhì) | 標配SU316L，另有哈式合金,、鈦材,、鋯材、鎳材可選 |
| 巖征儀器*優(yōu)勢 | 1,、國內(nèi)*液晶觸摸控制屏,，光源及光化學反應釜參數(shù)實時液晶顯示及屏幕上直接修改控制,。 |
| 參數(shù) | 巖征儀器 微量光化學高壓反應釜 | 國內(nèi)同行業(yè)廠家設備 |
| 光源情況 | 光源采用頂部開孔平行照射式,，氙燈采用美國進口PE燈源，另選配100W,300W,500W,1000W汞燈,，汞氙燈,，氙燈光源。 | 普通光源,，光源功率瓦數(shù)上不全,。 |
| 容積 | 10-500ml（巖征公司是專業(yè)反應釜公司，容積,、規(guī)格圖紙完善,，設計施工一體，可按照客戶需求定制,。 | 容積單一,，集中在100ml,200ml等一些常用規(guī)格上 |
| 控制部分 | 國內(nèi)*，謹防假冒,！液晶觸摸屏操作,，PLC程序控制，控制箱體外觀及功能設計已申請,，控制系統(tǒng)可控制汞燈,，氙燈，金鹵燈等各種實驗光源的點亮,，閉合,，并且支持燈源穩(wěn)定時間設置，10.1吋液晶顯示屏實時顯示光源功率,、電流,、電壓等實驗重要參數(shù),，給您的實驗帶來*的方便！ | 按鈕操作,。只能簡單實現(xiàn)光源的點亮及關閉。 |
| 釜體材質(zhì) | 標配316L不銹鋼,，另有鈦材,鋯材,蒙乃爾合金,哈氏合金等可選 | 普通不銹鋼 |
| 通光孔設置 | 防霧耐壓紫外石英視窗,，通光孔徑30mm,通光率在92%以上?？蛇x配藍寶石材質(zhì)或配鍍膜透光耐壓視鏡,。 | 石英材質(zhì) |
| 溫度設置 | 采用PID程序控制溫度，控溫范圍:室溫-300℃,，另有-30℃-280℃溫度可定做,。*環(huán)繞式加熱裝置，保證光化學反應中釜內(nèi)各部分物料的溫度均勻性,。 | 控溫均勻性不能保證,。 |
| 壓力設置 | 標準工作壓力10mpa以內(nèi)，設計壓力為12.5mpa,。釜體配壓力表及安全泄壓裝置保證反應安全. | 壓力一般在3mpa,沒有嚴格的試壓標準及規(guī)范 |
| 攪拌控制 | 液晶觸摸屏控制,，轉(zhuǎn)速數(shù)字顯示，可控可調(diào),。速度：0－1500rpm巖征公司的攪拌集成度高,，可控可顯。 | 國內(nèi)廠家兩種情況,，一種是不帶攪拌,，一種是釜底放置在磁力攪拌器上 |
| 通氣設置 | 光化學釜蓋設置有通氣口，可實現(xiàn)光照反應在真空負壓下反應,，通氮氣反應,，通氧氣反應，通其他氣體反應等,。配高溫高壓進口通氣閥門,，可通多路氣體。 | 可通低壓氣體,，不可多路通氣,。 |
| 取樣設置 | 在光催化高溫高壓情況下（250℃、10mpa）,巖征公司*帶壓取液相物料設計,，可以在不終止反應情況下進行手動取樣,，在線分析。 | 在低溫低壓的情況下,，（常溫,、0.5mpa）少數(shù)廠家可以實現(xiàn)這個功能,。 |
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