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徠卡顯微系統(tǒng)(上海)貿(mào)易有限公司

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IRLC激光聚焦顯微鏡

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西努光學(xué)創(chuàng)建于2003 年,主營(yíng)工業(yè)顯微鏡及制樣設(shè)備,、鏡片測(cè)定設(shè)備,,高速攝像系統(tǒng)、工業(yè)內(nèi)窺鏡,、機(jī)器視覺(jué)等工業(yè)及科研應(yīng)用的檢測(cè)設(shè)備及系統(tǒng)集成,。
西努光學(xué)秉承“以光學(xué)為核心,為客戶提供解決方案”的經(jīng)驗(yàn)思路,,經(jīng)過(guò)16年的努力,,成為眾多企業(yè)、高??蒲袉挝惶峁└鞣N專業(yè)化的光學(xué)系統(tǒng)解決方案,。并于2012 年導(dǎo)入SAP 管理系統(tǒng),通過(guò)系統(tǒng)資源整合,,為客戶提供更優(yōu)質(zhì),、快捷的專業(yè)化服務(wù)。
2016 年,我們積極引進(jìn)檢測(cè)設(shè)備的同時(shí)導(dǎo)入制樣等配套設(shè)備以豐富我們實(shí)驗(yàn)室平臺(tái),,以更好的為客戶提供現(xiàn)場(chǎng)體驗(yàn),,從微米到納米滿足客戶從制樣到結(jié)果分析的一站式體驗(yàn)服務(wù)。



奧林巴斯顯微鏡,奧林巴斯工業(yè)內(nèi)窺鏡,iX高速攝像機(jī),標(biāo)樂(lè)金相制樣設(shè)備,威爾遜硬度計(jì),navitar鏡頭,日立掃描電鏡,加拿大WDI光學(xué)設(shè)備

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池

多層檢測(cè)

IRLC激光聚焦顯微鏡由近紅外激光和掃描共聚焦組合而成的IRLC有著諸多優(yōu)勢(shì),。首先便是具備了對(duì)薄晶片的多層高分辨率圖像的采集能力,;同時(shí),IRLC具備更深的樣品穿透能力,、更高的分辨率和更快的圖像采集速度,。

近紅外優(yōu)化光路

系統(tǒng)包含了全套Olympus近紅外長(zhǎng)工作距離物鏡。這組物鏡專為硅晶圓的內(nèi)部結(jié)構(gòu)檢測(cè)而設(shè)計(jì),,采用優(yōu)化的近紅外光學(xué)系統(tǒng),,并配備的校正環(huán)以適應(yīng)不同后面的硅片或玻璃表面。

一鍵雙視野

IRLC包含一組可見(jiàn)光彩色成像系統(tǒng)和一組近紅外共聚焦系統(tǒng),。這種搭配可對(duì)樣品表面和底層(*深達(dá)800μm)同時(shí)成像,。

由于采用了ATF6/0AA/ZAA技術(shù)(即實(shí)時(shí)快速自動(dòng)聚焦技術(shù)),IRLC實(shí)現(xiàn)了真正意義上的實(shí)時(shí)聚焦-不管觀察方式和樣品表面狀況如何變化,,視野內(nèi)持續(xù)聚焦?fàn)顟B(tài),。

IRLC激光聚焦顯微鏡簡(jiǎn)潔的軟件界面

功能完善、操作簡(jiǎn)單,,直觀的軟件界面設(shè)計(jì)旨在提高工作效率,,簡(jiǎn)化檢測(cè)流程?;静倏毓δ馨▽?duì)照明,、放大倍率、XYZ控制以及對(duì)焦補(bǔ)償?shù)膮?shù)調(diào)整,。 載物臺(tái)移動(dòng)可通過(guò)軟件操控,、手柄操控、或者簡(jiǎn)單地點(diǎn)擊實(shí)時(shí)畫面來(lái)完成,。

高級(jí)功能

線性XY “pointto point” 和 “pointto multipoint” 測(cè)量及高級(jí)圖像采集選項(xiàng)可實(shí)現(xiàn)均幀,、AveragedImage、Z軸序列采集,、以及在兩點(diǎn)間圖像序列采集,。

自動(dòng)檢測(cè)

集成了全電動(dòng)控制和自動(dòng)聚焦的IRLC,配合全自動(dòng)軟件可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)檢測(cè)流程,,并可在同*程內(nèi)對(duì)多個(gè)樣品進(jìn)行檢測(cè),。

 

CIS(CMOS成像芯片)

很多CIS模塊已經(jīng)在像素上方加裝了保護(hù)面板和彩色濾光片,給檢測(cè)帶來(lái)很多困難,。使用IRLC即可輕松看到表面之下的結(jié)構(gòu)特征。

5X BF (Front)

5X IRLC (Front)

20X IRLC (Front)

50X IRLC (Front)

100X IRLC (Front)

 

高摻雜半導(dǎo)體

從正面穿透金屬基板觀察是不可能實(shí)現(xiàn)的;使用IRLC從背面穿透300μm高摻雜硅可清晰觀察到該區(qū)域下的內(nèi)部結(jié)構(gòu),。

10XBF (Front)

20XIRLC (Back)

50XIRLC (Back)

100XIRLC (Back)

低摻雜半導(dǎo)體

使用IRLC從背面穿透800μm低摻雜硅,,刻蝕圖案清晰可見(jiàn).

5X BF (Front)

20XIRLC (Back)

50X IRLC (Back)

100X RLC (Back)

MEMS器件

僅使用明場(chǎng)觀察,表面細(xì)節(jié)清晰可見(jiàn),;使用IRLC,,表面之下的MEMs結(jié)構(gòu)清晰可見(jiàn)。

5X BF (Front)

5X IRLC (Front)

10XIRLC (Front)

20XIRLC (Front)

 



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