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USPM-RUⅢ鏡片反射率測(cè)定儀

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西努光學(xué)創(chuàng)建于2003 年,主營(yíng)工業(yè)顯微鏡及制樣設(shè)備,、鏡片測(cè)定設(shè)備,,高速攝像系統(tǒng)、工業(yè)內(nèi)窺鏡,、機(jī)器視覺等工業(yè)及科研應(yīng)用的檢測(cè)設(shè)備及系統(tǒng)集成,。
西努光學(xué)秉承“以光學(xué)為核心,為客戶提供解決方案”的經(jīng)驗(yàn)思路,,經(jīng)過16年的努力,,成為眾多企業(yè)、高??蒲袉挝惶峁└鞣N專業(yè)化的光學(xué)系統(tǒng)解決方案,。并于2012 年導(dǎo)入SAP 管理系統(tǒng),通過系統(tǒng)資源整合,,為客戶提供更優(yōu)質(zhì),、快捷的專業(yè)化服務(wù)。
2016 年,,我們積極引進(jìn)檢測(cè)設(shè)備的同時(shí)導(dǎo)入制樣等配套設(shè)備以豐富我們實(shí)驗(yàn)室平臺(tái),,以更好的為客戶提供現(xiàn)場(chǎng)體驗(yàn),從微米到納米滿足客戶從制樣到結(jié)果分析的一站式體驗(yàn)服務(wù),。



奧林巴斯顯微鏡,奧林巴斯工業(yè)內(nèi)窺鏡,iX高速攝像機(jī),標(biāo)樂金相制樣設(shè)備,威爾遜硬度計(jì),navitar鏡頭,日立掃描電鏡,加拿大WDI光學(xué)設(shè)備

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池

USPM-RUⅢ鏡片反射率測(cè)定儀的特點(diǎn):
1,、消除背面反射光
采用特殊光學(xué)系,消除背面反射光,。不必進(jìn)行背面的防反射處理,,可正確測(cè)定表面的反射率。

2,、可測(cè)定微小領(lǐng)域的反射率
用對(duì)物鏡對(duì)焦于小區(qū)域(φ60μm),,可測(cè)定鏡片曲面以及鍍膜層斑點(diǎn),。

3、測(cè)定時(shí)間短
使用Flat Field Grating(平面光柵)和線傳感器的高速分光測(cè)定,,可迅速實(shí)現(xiàn)再現(xiàn)性很高的測(cè)定,。

4、XY色度圖,、L*a*b測(cè)定可能
以分光測(cè)定法為基準(zhǔn),,從分光反射率情況可測(cè)定物體顏色。

5,、可測(cè)定的Hard Coat(高強(qiáng)度鍍膜)膜厚
用于涉光分光法,,可以不接觸、不破壞地測(cè)定被測(cè)物的膜厚(單層膜),。

USPM-RUⅢ鏡片反射率測(cè)定儀主要用途:

1,、各種透鏡(眼鏡透鏡、光讀取透鏡等)

2,、反射鏡,、棱鏡以及其他鍍膜部品等的分光反射率、膜厚測(cè)定(單層膜)

規(guī)格
測(cè)定波長(zhǎng) 380 nm~780 nm
測(cè)定方法 與參照樣本的比較測(cè)定
被檢物N.A. 0.12(使用10×物鏡時(shí)) 
0.24(使用20×物鏡時(shí)) 
* 與物鏡的N.A.不同
被檢物W.D. 10.1 mm(使用10×物鏡時(shí)) 
3.1 mm(使用20×物鏡時(shí))
被檢物的曲率半徑 -1R ~-∞,、+1R~∞
被檢物的測(cè)定范圍 約ø60 μm(使用10×物鏡時(shí)) 
約ø30 μm(使用20×物鏡時(shí))
測(cè)定再現(xiàn)性(2σ) ±0.1%(380 nm~410 nm測(cè)定時(shí)) 
±0.01%(410 nm~700 nm測(cè)定時(shí))
顯示分辨率 1 nm
測(cè)定時(shí)間 數(shù)秒~十幾秒(因取樣時(shí)間而異)
光源規(guī)格 鹵素?zé)簟?2 V 100 W
載物臺(tái)Z方向驅(qū)動(dòng)范圍 85mm
PC接口 USB方式
裝置重量 機(jī)身:約20 kg(PC,、打印機(jī)除外) 
光源用電源:約3 kg 
控制器盒:約8 kg
裝置尺寸 機(jī)身: 
300(W)×550(D)×570(H) mm 
光源用電源: 
150(W)×250(D)×140(H) mm 
控制器盒: 
220(W)×250(D)×140(H) mm
電源規(guī)格 光源用電源: 
100 V(2.8 A)/220 V AC 
控制器盒: 
100V(0.2A)/220V AC
使用環(huán)境 水平且無振動(dòng)的地方 
溫度: 23±5 °C 
濕度: 60%以下、無結(jié)露

本裝置不保證溯源體系中的精度,。 
可以特別訂做測(cè)定波長(zhǎng)440 nm~840 nm規(guī)格,。

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