坩堝(樣品臺)可移動型1200℃管式爐--OTF-1200X-S-HPCVD
- 公司名稱 中美合資合肥科晶材料技術(shù)有限公司
- 品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/2/10 20:57:45
- 訪問次數(shù) 2213
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OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內(nèi)移動(靠步進(jìn)電機控制)的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設(shè)備zui高工作溫度為1200℃,。
設(shè)備特點:坩堝通過一步進(jìn)電機控制爐管,,按照設(shè)定程序移動,同時坩堝后端安裝一熱電偶(隨坩堝儀器移動),,可實時監(jiān)測樣品的溫度,,意味著可通過移動坩堝的位置,在爐體中準(zhǔn)確找到實驗所需要的溫度,,使得實驗準(zhǔn)確度更高,,重復(fù)性更強。此款設(shè)備可用于多種實驗,,比如HPCVD(hybrid physical chemical deposition),,快速熱蒸發(fā),也可用于水平布里奇曼(Bridgman)法來長晶體,。
技術(shù)參數(shù)
高溫爐部分 |
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溫度控制系統(tǒng) |
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真空密封 |
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坩堝移動機構(gòu)&PLC控制 |
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zui大加熱速率和冷卻速率 | 可通過移動樣品到已預(yù)加熱的爐體中來得到zui大的加熱速率,,也可將樣品迅速移除高溫的爐體,,來得到zui大的降溫速率
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可選配件 |
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尺寸 | | |||
質(zhì)保 | 一年質(zhì)保期,,終生維護(hù)(不含加熱元件,、爐管和密封圈) | |||
質(zhì)量認(rèn)證 |
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注意事項 |
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應(yīng)用 |
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