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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>物理特性分析儀器>測厚儀>其它測厚儀 >THI630 X射線測厚儀

THI630 X射線測厚儀

參考價(jià) 188000
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

聯(lián)系我們時(shí)請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,,謝謝!


X射線RoHS儀、測厚儀技術(shù)轉(zhuǎn)讓


X射線熒光光譜儀,,英文縮寫XRF,。

XRF可用于分析物質(zhì)(元素)組成和鍍層厚度,具有便捷,、快速,、精度高等特點(diǎn)。

測含量精度能達(dá)PPM(百萬分之一)級,,測厚度能達(dá)0.01um級,。

其應(yīng)用主要有:

1)、RoHS,、無鹵分析:電子,、電器、五金,、塑膠等制造業(yè)

2),、鍍層測厚分析:電鍍、電子器件,、珠寶首飾等行業(yè)

3),、元素分析:貴金屬,、考古、礦產(chǎn),、材料,、水泥、鋼鐵,、石油,、環(huán)境等行業(yè)

   現(xiàn)成熟的研發(fā)、生產(chǎn)技術(shù)轉(zhuǎn)讓,。

聯(lián)系人:楊先生

聯(lián)系電話:13632568748

qq:648048428

X射線熒光光譜儀,XRF,RoHS分析儀,鍍層測厚儀,鹵素/重金屬分析儀

[技術(shù)參數(shù)]
     探測器:      進(jìn)口半導(dǎo)體探測器,,分辨率達(dá)139eV
     X光管:       鎢(W)靶,zui大電壓50kV,,zui大電流1mA
                           使用壽命長達(dá)5萬小時(shí)
     高壓電源:  精密X射線電源,,zui高輸出電壓50kV
                           穩(wěn)定度每8小時(shí)小于0.05%
     濾光片:      6組濾光片電動切換,有效降低背景干擾
     準(zhǔn)直器:      直徑8mm,、5mm,、2mm、1mm,、0.5mm,、0.2mm電動切換
                           免去人工操作煩惱
     對焦系統(tǒng):  旋鈕視覺對焦
     樣品腔:     大氣
     樣品觀察: 高清晰彩色CCD射線頭
     X射線防護(hù): 三重X射線防護(hù)(樣品腔、機(jī)殼,、程序控制),,
                          低于GB16355-1996防輻射標(biāo)準(zhǔn)
     輸入電壓:  AC 220V/50HZ
    功耗:           260W
    樣品腔尺寸: 660×400×135mm
    外型尺寸:  680×460×475mm
    重量:         40Kg

[性能指標(biāo)]
    可測元素:         硫(S)-鈾(U)
    可測鍍層:         zui多5層金屬鍍層、金屬基體上單層無機(jī)薄膜
    鍍層種類:         單金屬,、合金,、無機(jī)薄膜
    精度:                 zui高可達(dá)0.02um
    厚度相對誤差: 單層8%,多層15%
    厚度范圍:         輕金屬(如:Ti,、Cr等)0.01~50um
                                 中金屬(如:Ni,、Cu、Zn,、Pd,、Ag、Sn等)0.01~30um
                                 重金屬(如:Pt,、Au,、Pb等)0.01~10um
    zui小測量直徑: 2mm
    分析時(shí)間:         60~300S

[功能特點(diǎn)]
    采用進(jìn)口的型探測器,對超低含量的元素都能探測,;
    自動安全的高壓防護(hù)電路設(shè)計(jì),;
     *的光路系統(tǒng),增大X射線強(qiáng)度,,減少散射背景,;
    緊密封閉的腔體設(shè)計(jì),、電路控制、機(jī)械控制三重X射線防護(hù),;
    靈活精準(zhǔn)的分析軟件,,既可進(jìn)行簡單、快速的物質(zhì)測試,,滿足工業(yè)化生產(chǎn)需求,,也
    可通過科學(xué)的參數(shù)配置滿足復(fù)雜、高精度的元素分析,;
    采用了,、復(fù)雜的X熒光分析算法,比任何同類軟件都要適應(yīng)各種復(fù)雜,、多
    樣的物質(zhì)分析,,解決了傳統(tǒng)X熒光分析必須依賴相同基體標(biāo)樣局限;
    對分析樣品的狀態(tài),、形狀,、大小自動進(jìn)行校正,減少因制樣不足而帶來的誤差,。



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