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日本武藏MUSASHI微量點(diǎn)膠機(jī)非接觸式納米級

2025-06-21

產(chǎn)      地:
日本
所在地區(qū):
四川成都市
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日本武藏MUSASHI微量點(diǎn)膠機(jī)非接觸式納米級-成都藤田科技提供

日本武藏MUSASHI微量點(diǎn)膠機(jī)非接觸式納米級


產(chǎn)品技術(shù)描述(核心賣點(diǎn))

1. 超微量非接觸噴射技術(shù)(HyperJet™)

  • 突破傳統(tǒng)接觸式限制:通過高頻壓電驅(qū)動(dòng)實(shí)現(xiàn)0.1nL級超微量點(diǎn)膠,,無需針頭接觸基板,,避免材料反粘、針頭磨損及基板損傷問題,。

  • 精密控制能力:支持0.05mm~5mm噴射高度動(dòng)態(tài)調(diào)整,,適應(yīng)曲面、異形結(jié)構(gòu)及微型元件(如芯片級封裝,、MEMS傳感器)的高難度點(diǎn)膠場景,。

2. 智能自適應(yīng)點(diǎn)膠系統(tǒng)

  • AI工藝參數(shù)優(yōu)化:內(nèi)置材料黏度自適應(yīng)算法,實(shí)時(shí)匹配氣壓,、頻率與噴射量,,確保復(fù)雜流體(導(dǎo)電膠、UV膠,、生物醫(yī)藥涂層)的穩(wěn)定一致性,。

  • 全閉環(huán)質(zhì)量監(jiān)控:集成高分辨率視覺系統(tǒng)(5μm級定位精度)+ 膠量反饋傳感器,實(shí)現(xiàn)過程100在線檢測,,良品率提升至99.8%,。

3. 多場景模塊化擴(kuò)展設(shè)計(jì)

  • 一機(jī)多用架構(gòu):可選配多軸聯(lián)動(dòng)模塊、真空防飛濺組件及溫控膠閥(-40℃~200℃),,覆蓋3C電子,、半導(dǎo)體封裝,、醫(yī)療器械等超精密領(lǐng)域。

  • 工業(yè)互聯(lián)兼容性:支持SECS/GEM協(xié)議及IoT遠(yuǎn)程運(yùn)維,,無縫接入智能工廠生產(chǎn)線,,降低綜合運(yùn)維成本30%以上。

4. 環(huán)保節(jié)能技術(shù)升級

  • 材料浪費(fèi)減少90%:非接觸式噴射杜絕傳統(tǒng)針頭滴漏,,搭配膠路自清潔系統(tǒng),,年耗材成本降低超50%。

  • 低能耗運(yùn)行:功耗<200W,,噪音<65dB,,滿足無塵車間及實(shí)驗(yàn)室嚴(yán)苛環(huán)境要求。


差異化亮點(diǎn)提煉

  • 支持0.1nL級點(diǎn)膠量+5μm定位精度的非接觸設(shè)備,,微電子封裝領(lǐng)域空白,。

  • 技術(shù)壁壘:MUSASHI獨(dú)立HyperJet™壓電噴射技術(shù),攻克高黏度流體(≥100,000cps)穩(wěn)定噴射難題,。

  • 投資回報(bào):通過良率提升與耗材節(jié)省,,客戶6-12個(gè)月即可收回設(shè)備成本。

日本武藏MUSASHI微量點(diǎn)膠機(jī)非接觸式納米級

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