PELCO精密研磨裝置系列

PELCO精密研磨裝置適合在金相試樣,、單晶片,、電子材料、玻璃,、巖石或其他材料樣品上制備平面、平行面等高度拋光的表面,。研磨硬質(zhì)材料時(shí),，先用環(huán)氧樹脂等包埋樣品,，可以避免圓角或過度拋光,，特別適用于手工磨拋半導(dǎo)體、光學(xué)元件,，以及凹坑前TEM樣品的減薄,。PELCO研磨裝置可用于研磨直徑3mm至25mm、厚度不超過13mm的樣品,。

PELCO 14100型 研磨裝置

PELCO 14100研磨裝置具有磁性樣品臺(tái)，使用墊片來設(shè)置樣品厚度,。它可以容納直徑為13mm的樣品，配有厚度為0.025至0.508mm的墊片,。樣品臺(tái)通過磁性固定在裝置上，便于檢查和移除樣品,，裝置底座的直徑為48mm,。這種裝置非常適合在對(duì)TEM樣品進(jìn)行壓痕之前進(jìn)行常規(guī)研磨,。

PELCO 14500型 研磨裝置

PELCO 14500研磨裝置由千分尺控制,，步進(jìn)刻度為25um，可以容納最大直徑13mm,、高度13mm的樣品。樣品臺(tái)帶螺紋,，易于拆卸,，可用蠟或粘合劑安裝樣品,。硬質(zhì)合金底座可更換，裝置底座的直徑為38mm,。

PELCO 15000型 研磨裝置

PELCO 15000研磨裝置由千分尺控制，步進(jìn)刻度為25um,，可以容納最大直徑25mm、高度13mm的樣品,。樣品臺(tái)易于拆卸，可用蠟或粘合劑安裝樣品,?？?/span>借助導(dǎo)向器進(jìn)行定向拋光，硬質(zhì)合金底座可更換,，裝置底座的直徑為68.6mm,。

PELCO 77500型 研磨裝置

PELCO 77500研磨裝置由高精度數(shù)顯千分尺控制,，步進(jìn)刻度為25um，研磨精確度可控制在1um左右,。樣品可以用蠟粘結(jié)，或者通過真空附件施壓安裝,。它可以容納最大直徑50mm、高度13mm的樣品,，樣品臺(tái)易于拆卸,。碳化鎢底座可更換,，裝置底座的直徑為102mm。

PELCO 研磨托盤

PELCO研磨托盤適用于PELCO®14100,、14500、15000研磨裝置和PELCO 590三腳拋光器的手動(dòng)研磨和拋光,。它具有光滑,、平坦,、穩(wěn)定的拋光玻璃表面，收集盤用于收集研磨用過的研磨液,，便于研磨完后的清理,。研磨面尺寸為300 x 300mm,。